二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K #9263885 待售
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ID: 9263885
晶圓大小: 12"
優質的: 2014
LPCVD Furnace, 12"
Mid temperature heater: VCM-50-012L
2014 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K是一種反應性離子蝕刻器/asher,設計用於制造半導體工業中矽和其他基板的先進器件。該工具配備了高精度、最先進的等離子體源,可以在平面和3維結構中精確蝕刻或粉刷極薄的層(最低1nm)。該系統還具有先進的設備增強功能,專門設計用於減少蝕刻或灰化過程的過程時間,同時仍保持最高精度。例如,它配備了高頻脈沖源以及改進的氣體系統,以實現最佳蝕刻和灰化性能。此外,其獨特的TEL Formula ALD High-K技術能夠更好地控制等離子體特性和蝕刻精度。因此,這允許重現具有重復性和均勻性的高級蝕刻和灰度圖樣。此外,TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K支持使用各種氣體,例如一些氟化氣體,用於高度專業化的蝕刻和灰化工藝。它還具有使其能夠制造各種材料層(厚度在1到25nm之間),並具有卓越的清潔度和準確性。此外,系統與多種底物兼容,包括矽化物、氧化物和高K電介質。當使用適當的安全措施和專業知識時,ALD High-K方程式可以提供可靠的蝕刻和灰化工藝,能夠用矽和其他基板制造高性能、先進的器件。因此,它是半導體公司的寶貴工具。
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