二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9121065 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Formula
ID: 9121065
晶圓大小: 12"
Vertical LPCVD Furnace, 12" ALD High-K.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula(TEF)是一個先進的半導體製造工藝蝕刻器/asher平臺,提供卓越的精確度和材料去除過程的控制。TEF技術包括高精度壓板、真空室和氣體輸送系統。頂板采用304L不銹鋼制成,具有優異的耐磨性和耐腐蝕性。平板下方的高精度吸盤,即使施加大負荷,也能使晶片精確定位。真空室具有獨特的配置,允許對蝕刻速率和均勻性進行更高的工藝控制。氣流在閉環反饋系統內調節。所有必要的工藝參數都可以調整以達到所需的工藝結果。TEF 蝕刻器/asher平臺具有高蝕刻速率和工藝產量、工藝重復性、均勻蝕刻等多項性能優勢。高精度吸盤,直徑30或50毫米,設計用於提供晶圓在蝕刻過程中的精確定位。這確保了統一和可重復的結果。真空室還具有均勻的氣體壓力和流速,以確保均勻的蝕刻。此外,能夠很容易地調整參數,以便更好地控制蝕刻速率,從而最終導致更高的工藝產量。TEF平臺配備了雙軌技術,提供了常規蝕刻、定向蝕刻以及金屬半導體蝕刻等廣泛的工藝解決方案。此功能旨在與許多蝕刻氣體兼容,並使用戶能夠在應用程序中使用最高效的蝕刻劑來優化其過程。TEF平臺還集成了三維輪廓監視器(TPM),可幫助實時監控和調整蝕刻過程,從而提高工藝性能。總體而言,TEL Formula平臺是一個先進的蝕刻器/asher專門設計,以最大限度地提高半導體制造工藝效率和產量。其高精度吸盤、均勻的氣壓和流速、雙軌技術、TPM使用戶能夠對蝕刻工藝進行全面控制,從而獲得卓越的工藝性能。
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