二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9384119 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Formula是為半導體制造應用而設計的先進蝕刻（或灰化）設備。該系統能夠以高精度和重復性進行高度復雜的蝕刻過程。TEL Formula隨附等離子源、清潔蝕刻真空室、等離子體發生器、端點矽記憶細胞處理器等多種不同的工具。這些組件共同設計為使用戶能夠進行化學機械平面化（CMP）、等離子體蝕刻和幹蝕刻等過程。它還具有監視、測量和控制蝕刻過程的功能。TOKYO ELECTRON Formula中的等離子體源能夠產生高度均勻且可重復的電離等離子體。這會產生一個一致的蝕刻模式,可以精確地沿著預期的路徑定向。清潔蝕刻真空室使用戶能夠設置特定的蝕刻電壓和氣體流速，以確保均勻蝕刻。等離子體發生器為精確和可重復蝕刻提供了強大的能量來源。最後,端點Silicon Memory Cell處理器以等離子體發生器的功能為基礎,允許用戶存儲和使用多達40種不同的蝕刻配方,只需選擇一個按鈕。Formula中使用的復雜控件使高級流程表征和監控成為可能。這些包括DC和RF蝕刻速率、DC： RF比、蝕刻深度控制、蝕刻後表面質量、線密度、叠加和排便。此單元還允許高度分析,並通過Meso-Cam機器實時顯示蝕刻過程。此功能使用戶能夠在晶片區域進行磨練以獲得更精確的蝕刻並觀察蝕刻特性,而無需拉動晶片。TEL/TOKYO ELECTRON公式的先進特性有助於確保蝕刻工藝的質量和準確性。該工具提供了一個完整的蝕刻封裝，具有執行幹蝕刻、離子銑削、氧化物提升、深矽蝕刻和高長寬比蝕刻等精密工藝的靈活性。它還可用於使用反應性離子蝕刻（RIE）或碳輔助幹蝕刻（CADe）對晶片進行後蝕刻清潔,從而改善工藝控制和提高產量。當與其他TEL產品結合使用時，TEL Formula為改進過程控制和產量優化提供了功能強大且經濟高效的解決方案。該資產旨在方便地集成到串聯過程中,並且可以配置為滿足特定的生產需求。此工具可幫助制造商更精確地控制流程,從而確保更高級別的產品質量和可靠性。