二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9384151 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Formula（TEF）是一種為了高通量和高度可靠的晶圓蝕刻而設計的蝕刻器/asher。它具有先進的光刻技術、薄膜沈積能力和高精度的反應性離子蝕刻（RIE）模塊。TEF平臺利用最先進的等離子體過程控制技術，確保最佳蝕刻均勻性、可重復性和過程覆蓋率。它能夠實現出色的蝕刻輪廓，在廣泛的基材。TEF設備基於由射頻發生器、蝕刻室和晶圓傳遞室組成的框狀結構。射頻發生器用於創建蝕刻晶片所需的等離子體。蝕刻室是一種半導體級石英室，對熱應力和機械應力具有很高的抵抗力，使系統能夠在最短的維護和停機時間內運行很長一段時間。晶圓傳遞室的設計使晶圓之間的時間最小化，允許連續蝕刻操作。TEF單元利用多種技術實現了高蝕刻精度和均勻性。先進的光刻和沈積工藝用於在晶圓表面上創建特定於特征的圖樣，並在整個蝕刻過程中形成穩定的蝕刻輪廓。這臺機器還能夠進行原子層蝕刻（ALE）的超細光刻圖案。該工具配備了實時蝕刻速率測量、端點感測和過程診斷能力等過程控制技術。這些技術用於監測蝕刻工藝的進展，並確保蝕刻特征的質量最高。TEF資產還設計有溫度和壓力控制能力，以提供整個腔室的均勻蝕刻。最後,針對流程自動化系統的集成設計了TEF模型.該設備配備了晶片手柄功能，能夠與生產線中的其他加工工具集成，並提供晶片從一臺機器到另一臺機器的無縫過渡。這樣可以提高吞吐量,而不會影響準確性或質量。