二手 TEL / TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M #293637534 待售
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單擊可縮放
ID: 293637534
晶圓大小: 12"
優質的: 2010
Diffusion furnace, 12"
Carrier stage body
Main body
Vacuum box
X-Precursor bubbler box
Option box
Heater
PWR Box:
XP41VP
(2) XP42VP
XS7VP
XP2
XS5
Pump interphone
MM1 INTFC 2XP1
XP56VP
XS73VP
(2) XT902 TMA SAFTY Unit
XS103VP
XP776VP
XT 514-8
XT516
XT739
(2) XT901 TMA SAFTY Unit
Interphone XP92VP
XT530
XP40VP
GRSO PCB CN1
GRSO CN2
(5) XT513
(11) XT514
(5) XT510
XT513-1
XT513-2
XT513-3
XT510-7
(2) XP 1028 EXC
XP 1023 EXC
XP 1024 EXC
XP 1025 EXC
T/C Unit
T/C Cable
T/C Box
Control box top cover
Gas piping duct
RCU Piping box
Piping
Gas detector
Smoke detector
T/C Junction box
G/Box exhaust connection
FNC TOP Exhaust connection
O2 Analyzer
Vacuum box cover-1
Control box fox jig
Cooling water piping
Facility connection cover
Scavenger cover
Heater panel
Vacuum box cover-2
Heater frame support
Option box cover
Shutter corer
Carrier stage TOP Cover front panel
Fixed tripod
Positioning iron piece
Screws
Manifold
Main valve
Vacuum piping P1
Vacuum piping P2
Vacuum piping P3
Vacuum piping P4
Vacuum piping P5 (Bellow)
Inner tube support ring
Pedestal plate
Center ring
Outer tube lock ring
Boat rotate support
Inner tube lock ring
Outer tube seal ring
Manifold heater
Vacuum piping tape heater
Manifold ceiling water piping
Leak check port handle valve
Vacuum piping clamp
Heater insulator
Power box
2010 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M是一款強大的蝕刻設備,旨在滿足當今半導體制造工藝的苛刻要求。這種蝕刻器能夠處理從矽到有機材料的各種底物,如塑料和有機發光二極管(OLED)。系統的高級蝕刻工藝,稱為物理氣相沈積(PVD),允許精確控制每一層的形狀、大小和組成。具有高度均勻的沈積模式和較高的工藝產量。該蝕刻器配備了一個高性能化學氣相沈積(CVD)設施,用於進行快速和均勻的等離子體層蝕刻。TEL INDY PLUS B-M提供了一系列溫度控制選項,以允許最佳蝕刻條件。它包括熱板和感應加熱器,可精確控制高達2000 °C的溫度。蝕刻室內的電磁體有助於保持整個樣品的均勻沈積。該單元還包括一個創新的自動腔室高度控制機制,確保水平基板高度和均勻等離子體分散在基板上。真正讓TOKYO ELECTRON INDY PLUS-B-M與眾不同的是其用戶友好、高精度的等離子體蝕刻軟件。該機具有強大的用戶可調功率控制控制蝕刻時間,功率和占空比。通過強大的自動化模式,蝕刻器使過程的開發和優化變得更加容易。它還具有蝕刻室的3D圖形顯示功能,使用戶能夠監視和控制蝕刻過程。此外,TOKYO ELECTRON INDY PLUS B-M具有強大的光學發射光譜儀,用於精確的終點檢測。還包括石英管烤箱,用於熱不穩定基材的無應變加工。該蝕刻器的自動逐層沈積功能使其能夠方便地定制目標結構的層厚度。INDY PLUS B-M是一款高級蝕刻器,在小巧且用戶友好的軟件包中提供卓越的性能。憑借其強大的蝕刻工藝和直觀的控制系統,使得制造高精度結構比以往任何時候都更加容易。這種蝕刻器是當今要求苛刻的半導體制造業務的絕佳選擇。
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