二手 TEL / TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M #293637534 待售

ID: 293637534
晶圓大小: 12"
優質的: 2010
Diffusion furnace, 12" Carrier stage body Main body Vacuum box X-Precursor bubbler box Option box Heater PWR Box: XP41VP (2) XP42VP XS7VP XP2 XS5 Pump interphone MM1 INTFC 2XP1 XP56VP XS73VP (2) XT902 TMA SAFTY Unit XS103VP XP776VP XT 514-8 XT516 XT739 (2) XT901 TMA SAFTY Unit Interphone XP92VP XT530 XP40VP GRSO PCB CN1 GRSO CN2 (5) XT513 (11) XT514 (5) XT510 XT513-1 XT513-2 XT513-3 XT510-7 (2) XP 1028 EXC XP 1023 EXC XP 1024 EXC XP 1025 EXC T/C Unit T/C Cable T/C Box Control box top cover Gas piping duct RCU Piping box Piping Gas detector Smoke detector T/C Junction box G/Box exhaust connection FNC TOP Exhaust connection O2 Analyzer Vacuum box cover-1 Control box fox jig Cooling water piping Facility connection cover Scavenger cover Heater panel Vacuum box cover-2 Heater frame support Option box cover Shutter corer Carrier stage TOP Cover front panel Fixed tripod Positioning iron piece Screws Manifold Main valve Vacuum piping P1 Vacuum piping P2 Vacuum piping P3 Vacuum piping P4 Vacuum piping P5 (Bellow) Inner tube support ring Pedestal plate Center ring Outer tube lock ring Boat rotate support Inner tube lock ring Outer tube seal ring Manifold heater Vacuum piping tape heater Manifold ceiling water piping Leak check port handle valve Vacuum piping clamp Heater insulator Power box 2010 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M是一款強大的蝕刻設備,旨在滿足當今半導體制造工藝的苛刻要求。這種蝕刻器能夠處理從矽到有機材料的各種底物,如塑料和有機發光二極管(OLED)。系統的高級蝕刻工藝,稱為物理氣相沈積(PVD),允許精確控制每一層的形狀、大小和組成。具有高度均勻的沈積模式和較高的工藝產量。該蝕刻器配備了一個高性能化學氣相沈積(CVD)設施,用於進行快速和均勻的等離子體層蝕刻。TEL INDY PLUS B-M提供了一系列溫度控制選項,以允許最佳蝕刻條件。它包括熱板和感應加熱器,可精確控制高達2000 °C的溫度。蝕刻室內的電磁體有助於保持整個樣品的均勻沈積。該單元還包括一個創新的自動腔室高度控制機制,確保水平基板高度和均勻等離子體分散在基板上。真正讓TOKYO ELECTRON INDY PLUS-B-M與眾不同的是其用戶友好、高精度的等離子體蝕刻軟件。該機具有強大的用戶可調功率控制控制蝕刻時間,功率和占空比。通過強大的自動化模式,蝕刻器使過程的開發和優化變得更加容易。它還具有蝕刻室的3D圖形顯示功能,使用戶能夠監視和控制蝕刻過程。此外,TOKYO ELECTRON INDY PLUS B-M具有強大的光學發射光譜儀,用於精確的終點檢測。還包括石英管烤箱,用於熱不穩定基材的無應變加工。該蝕刻器的自動逐層沈積功能使其能夠方便地定制目標結構的層厚度。INDY PLUS B-M是一款高級蝕刻器,在小巧且用戶友好的軟件包中提供卓越的性能。憑借其強大的蝕刻工藝和直觀的控制系統,使得制造高精度結構比以往任何時候都更加容易。這種蝕刻器是當今要求苛刻的半導體制造業務的絕佳選擇。
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