二手 TEL / TOKYO ELECTRON Metal CVD Chamber for Triase+ Ti/TiN #9294228 待售

TEL Metal CVD Chamber for Triase+Ti/TiN是一種精密的蝕刻/灰化器，旨在將Ti/TiN沈積在具有高重復性的大面積上。這件設備由不銹鋼制成，使其能夠承受極端溫度和壓力水平。它還有一個閉環流動設備，保證了高純度、均勻性和可重復性。該系統包括一個獨特的氣體中心機構，它提供復合氣體流動在薄膜和氣體噴出水平從蝕刻室下遊。這確保了整個晶片表面的優質沈積。該室還配有一個改進的源單元，該單元包含最多五個氣體通道，用於薄膜形成。此外，蝕刻室還包括一個溫度控制器，用於在Ti/TiN沈積之前提高和穩定溫度。為了有效地操作這臺機器，操作員需要了解過程控制器的原理。此設備允許手動設置所有預處理,例如壓力、溫度和進氣流量。它還使操作員能夠動態調整工藝參數，以達到最佳性能。使用此工具時，操作員需要確保打開前蓋和腔室側蓋，然後才能打開工藝控制器。然後要求整個腔室的溫度均勻，通常是先引入工藝氣體。必須對氣體流量進行精確監測，以確保氣體壓力分布，防止超壓。該資產還配備了一個加熱石英窗口，可以由同一主電源從蝕刻室操作。確定石英窗的溫度對於蝕刻參數以及防止汙染是非常重要的。此外，操作員需要定期檢查石英窗的位置，以防止任何可能的損壞，並確保模型的最高性能。簡而言之，TOKYO ELECTRON Metal CVD Chamber for Triase+Ti/TiN是一種功能強大的蝕刻器/asher，可以幫助在大面積上輸送高可重現的沈積物。它是一個復雜的設備，需要有關過程控制器、溫度控制和石英窗定位的知識。為了獲得最佳結果，必須對所有相關參數進行精確和定期的監測。