二手 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3 #293603576 待售
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ID: 293603576
晶圓大小: 12"
優質的: 2018
Polysilicon etcher, 12"
(2) AC Distribution boxes
Main frame:
Loader module
(3) Load ports
Vaccum transfer module:
Transfer module
(2) Loadlock modules
Process module:
PM1: Vesta NV3
PM2: Vesta NV3
PM5: RF-3
PM6: Vesta NV3
(3) HF RF Power supplies
(4) Gas boxes
(3) RF Generators
(3) TMP Controllers
2018 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3是一種可靠、高效、精確的等離子體蝕刻器/asher,用於廣泛的應用。TEL Tactras Vesta NV3采用「等離子體增強蝕刻」技術運作,該技術使用高溫、高電場和高能離子。這種蝕刻方法可以在精確的圖樣上進行精確蝕刻,以及廣泛的深度蝕刻/灰化。TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3的界面是人性化的,允許精確和容易控制蝕刻參數。它還包括一個直觀的圖形用戶界面,它減少了生產周期時間並提高了生產率。蝕刻器/asher支持多種基材尺寸,從200 mm到300 mm不等,使其用途廣泛,非常適合各種半導體生產工藝。該NV3還設有一個先進的熔爐模塊,有助於減少不均勻的加熱和幫助均勻蝕刻。此外,它還具有一個泵系統,該系統減少了氣體消耗,降低了與蝕刻工藝相關的成本。該NV3配備了SEGARD(超級蝕刻氣體分析數據記錄),可以準確記錄蝕刻表面上的氣體分布。這有助於提高蝕刻圖樣的準確性,並確保蝕刻過程的均勻性。NV3提供的一些功能包括自動基板溫度控制、自動出口溫度控制和自動溝槽形成。這些特性很重要,因為它們有助於保持基板溫度恒定,並有助於提高工藝的均勻性。該NV3還能夠同時蝕刻多達10個晶圓,大大提高生產率和吞吐量。總之,TactrasVesta NV3等離子體蝕刻器/asher是一種高精度、可靠的蝕刻器/asher,用於各種生產工藝。這樣的特性可以在各種基材尺寸上實現均勻的蝕刻、更快的吞吐量和出色的均勻性。
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