二手 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3 #9312750 待售

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ID: 9312750
晶圓大小: 12"
優質的: 2017
Oxide etcher, 12" Loader module 2.0 (3) Nitrogen purged load ports (2) Chambers (2) ATCC MP,120° (16) Gas lines (4) ATS 60 SE Chillers (2) TEL / TOKYO ELECTRON Power racks (2) EBARA ESV 300 Pumps Advanced purge station VTM / LLM Pump Carrier ID reader for load ports S-RDC Syncronized pulse FC2 Chamber Large turbo pump (Non-heated) C5K Endpoint detection system Fast Flow Measurement System (FFMS) SMIF Handler Gas: Line / Gas 1 / H2 2, 13 / C4F8 3 / NF3 4 / CH4 5 / CH2F2 6 / CHF3 7, 16 / CF4 8, 14 / N2 9, 15 / O2 10 / CO 11 / CO2 12 / Ar CE Marked Does not include chillers 2017 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3是一種用於半導體制造工藝的蝕刻器/asher。它是一種單室設備,設計用於晶圓制造中的批處理應用。TEL Tactras Vigus LK3是一種全自動蝕刻器,一次運行最多可處理150個晶圓。它配有兩個獨立的稀氫氟酸源(DHF),以提供對所需晶片表面蝕刻深度的精確控制。TOKYO ELECTRON TACTRAS Vigus LK3在其蝕刻室中采用了獨特的晶片支架設計,以在所有晶片上提供最大的晶片負載穩定性和均勻的加工時間。利用專用輸送機系統和加工室提高蝕刻精度和可靠性。該設備能夠使用高級工藝控制器和高度復雜的軟件進行高精度控制。該LK3與矽、鋁、銅等各類晶片兼容。此外,該機器能夠支持多種蝕刻配方,從而允許快速轉換和工藝優化。Tactras Vigus LK3的設計采用了堅固的機械結構,通過多年的使用確保其壽命和可靠性。耐用外殼具有耐腐蝕性,可承受溶劑和化學清潔劑的暴露。該工具還配備了直觀、用戶友好的觸摸屏界面,使操作員能夠快速輕松地查看和調整蝕刻參數。此外,高級用戶界面還提供強大的服務和維護功能以及遠程診斷和實時數據記錄功能。此資產的設計考慮了安全性,並為操作員的安全提供了多種級別的保護。TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3蝕刻器的設計符合所有國際安全標準,包括NFPA 79和CENELEC EN 60079-11。它還提供了一系列安全功能,例如單獨的互鎖模型、緊急停止按鈕和噪音限制器。TEL Tactras Vigus LK3可以被技術人員用來精確地蝕刻各種類型的晶圓。它非常適合在許多半導體相關的應用中使用。
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