二手 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras #9395908 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON Tactras，一種高解析度的蝕刻/asher設備，設計用於各個行業，包括半導體、航空航天、汽車、消費電子和醫療領域的行業。TEL Tactras擁有從4nm到5µm的各種材料的各種薄膜厚度的高度通用能力。這套精密蝕刻系統配備了超高分辨率、可調蝕刻速率控制、可重復的深度蝕刻能力。TOKYO ELECTRON Tactras單元由幾個組件組成，包括主單元、蝕刻盤和電源。主機采用開放式腔室設計，方便出入，配有六軸機械臂和用於精確導航和控制的電動夾具升降機。蝕刻托盤在高速蝕刻時使用壽命長,可靠性堅固。機動化夾具升降機在蝕刻過程中便於調整和不斷監測側壁蝕刻。Tactras設計了一個高度先進的實時，預測蝕刻速率控制機器。此工具使用高級可控參數在處理過程中準確保持一致的蝕刻速率。TEL/TOKYO ELECTRON Tactras的實時控制功能使用戶能夠優化蝕刻條件,同時降低不均勻和蝕刻損壞的風險。TEL Tactras強大的低溫等離子體源能夠產生10至20 eV的離子能量,並且可調至30至40 eV。這種低溫等離子體源能夠提供高沈積速率和減少工藝時間，從而增加樣品吞吐量。TOKYO ELECTRON Tactras還利用先進的氣體輸送和控制資產進行精確和成功的蝕刻結果。Tactras為用戶提供了幾種可選功能,例如氣體回收模型和溫度/壓力區域監視器。壓力/溫度區監視器允許用戶檢查蝕刻室內多個點的溫度和壓力讀數。氣體回收設備有助於減少氣體浪費，從而提高工藝效率。此外，TEL/TOKYO ELECTRON Tactras系統提供了廣泛的診斷工具，使用戶能夠在處理周期之前預先設定蝕刻參數，以進行工藝優化。配備了這些先進的功能，TEL Tactras是一個用途廣泛、功能強大、可靠的針對研發和工業環境的蝕刻單元。其先進的控制機器、低溫等離子體源和可選功能使TOKYO ELECTRON Tactras成為薄膜蝕刻和深度蝕刻應用的理想解決方案。這種高度精確的蝕刻工具能夠為任何蝕刻需求提供可靠的結果。
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