二手 TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC #9236838 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC是一款用於半導體工業的先進蝕刻/asher設備。它旨在從半導體表面沈積和去除材料，並具有精確和可重復的結果。該系統由一個中央處理室組成，稱為原子轉移化學氣相沈積（ATCVD）室，以及另外兩個蝕刻室（反應性離子蝕刻（RIE）和幹金屬蝕刻（DME））。ATCVD腔室用於將矽、氮化鈦、氧化鋁等材料的薄膜沈積到半導體晶片上，形成特定的電觸點等結構。在ATCVD室內，含有所需材料的氣體混合物從高壓氣瓶中流動。氣流由ATCVD室的光束監測裝置（BMS）精細控制，自動調整成緊光束。這BMS有助於確保非常薄的薄膜沈積具有高精度和可重復性。用於從半導體晶圓表面蝕刻出結構的RIE腔室,如連接器、觸點和接線。在這個室內，將含有反應性化學物質的氣體混合物引入受控真空環境，形成一個商業上可選擇的等離子體場。然後這個等離子體場有選擇地將不想要的材料蝕除，同時保持所需的材料完整。DME腔室用於幹金屬蝕刻，意思是在不使用化學工藝的情況下去除金屬層。這個腔室使用感應耦合等離子體，這樣就可以在不需要氣相蝕刻劑的情況下對材料進行反應性去除。這三個會議廳一起為用戶提供了廣泛的高級處理能力。此外,TEL TE 5000 ATC還配備了高級安全機器,以及帶有觸摸屏的圖形用戶界面。這樣可以方便地輸入命令,並且工具的網絡兼容體系結構可以輕松集成到其他系統中。它還支持用於不同自定義蝕刻任務的各種配方模板,以進一步提高其靈活性和效用。總而言之，TOKYO ELECTRON TE 5000ATC是設計用於半導體行業的高度先進的蝕刻/aschring資產。它為用戶提供了一致的結果、精確的控制、安全和方便的用戶控制，使其成為處理各種半導體表面的理想選擇。