二手 TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000 #9192931 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9192931
晶圓大小: 6"
優質的: 1991
Plasma etcher, 6"
Process: Oxide
Vacuum type
Gauge:
MKS 622A02RAE Pressure gauge
VACUUM GEMERAI CMLA-21 Pressure gauge
(2) GRANVILLE PHILLIPS 275071 Convection gauges
Sub module:
EDWARDS CDP80 Dry pump
EDWARDS DP80 Dry pump
SEIKO SEIKI MG-STPH600C-T21/60 TMP
SMC INR-341-60A-X15 Chiller
TEL / TOKYO ELECTRON Chiller Trans OEM
Valve:
VEXTA PH265-02 APC
(3) KURODA C-2-50-60-R3 Gates
Gas flow control:
STEC SEC-4400RC 100 SCCM MFC (CHF4)
STEC SEC-4400MC-302 100 SCCM MFC (CF4)
STEC SEC-4400MC-302 1 SLM MFC (Ar)
STEC SEC-4400MC-302 1 SLM MFC (He)
STEC SEC-4400M 50 SCCM MFC (N2)
RF Unit:
DAIHEN MFG-20SA3A Generator
DAIHEN MFG-20SA3 RF Controller
ASTECH ATL-100 Matcher
JOBIN YVON H-10 VIS EPD
TEL GAP
Power supply: 208-230 VAC, 50/60 Hz, 40 A, 3 Phase
1991 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000是一種蝕刻器，或稱為asher，用於半導體制造工藝。它是一種自動化機器，旨在減輕生產時間和組織在矽基板上的蝕刻過程。該設備具有精確的工藝精度、光纖通信和快速數據傳輸等特點。TEL TE5000的設計具有靈活性。它配備了高度剛性的框架，可以方便、安全和精確地裝載和卸載基板。它有一個耐腐蝕和不透氣的操作室，除了內置的真空系統，以確保加工室的緊密性。TOKYO ELECTRON TE-5000裝有一個自動晶片/基板支架，可以編程，使基板精確轉移到適當的加工位置。這樣可以確保在整個過程運行期間進行準確的蝕刻。此外，TEL/TOKYO ELECTRON TE5000還配備了一個全自動的配對站，可以在室內自動設置基板和環境。該機器由一臺能夠驅動整個蝕刻單元的高性能電動機提供動力。電機配有先進的控制系統，如三級電源單元，可根據要求的過程自動監控和調整功率水平，確保精確蝕刻結果。此外，高精度的運動控制系統可以調節過程的速度和加速度，從而獲得非常精確的結果。該計算機還通過顯示計算機提供故障檢查功能,使操作員能夠在進程啟動前驗證蝕刻條件。這對於確保機器正常運行而不出現差異至關重要。為了確保高效可靠的流程,TEL TE 5000配備了多種功能。例如,使用高精度的翻轉堆叠器可以在不變形的情況下提高和降低400 mm的基板。此外，機器還配備了中央轉移，模擬加工過程中基板和真空系統的運動。總之，TEL TE-5000為用戶提供了一個功能強大且可靠的針對各種半導體應用的蝕刻解決方案。內置的自動化和監視功能可提高流程的準確性,從而每次都能獲得一致的結果。
還沒有評論