二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9154830 待售

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TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K
已售出
ID: 9154830
晶圓大小: 12"
Vertical PCVD furnaces, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K是一種為了先進的光刻和微加工而設計的蝕刻器/asher。該蝕刻器/灰化器配備了高性能、精確控制的大氣反應性沈積工具,能夠在真空環境中進行精確的蝕刻。TEL TELFORFORMULA ALD High-K能夠同時處理低壓和高壓環境。這允許對物理和化學系統進行蝕刻。用反應性氣體進行蝕刻,以確保一致的反應速率和均勻的蝕刻。ALD High-K還包括一個專利的「動態控制系統」,該系統自動調節氣體流動、溫度和壓力,以及沈積時間,以產生具有廣泛蝕刻參數的精細控制蝕刻工藝。這種先進的蝕刻器/asher是完全封閉的,並提供了一個非常高的精確度的蝕刻速率。環境的溫度和成分也可以精確配置,使各種材料可以用相同的工藝蝕刻。TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K能夠蝕刻標準和薄膜材料。蝕刻工藝效率極高,耗材成本低,功耗低。該蝕刻可以配置為蝕刻範圍廣泛的寬高比與最小的底切和無氧化。TELFORMULA ALD High-K已被用於制造半導體、IC、PCB和MEMS。這種用途廣泛的蝕刻器/asher也被用於快速原型設計、3D打印、納米技術和其他先進的制造應用。ALD High-K包含了幾項確保安全操作的高級安全功能,包括過溫保護、O2級過低時自動關閉以及高溫絕緣。蝕刻器/asher包括長過程和短過程的單步和多步蝕刻。總之,TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K是一種先進的蝕刻器/asher,設計用於先進的光刻和微加工。這種先進的蝕刻器/灰化器能夠通過調整真空環境中的氣流、溫度和壓力來產生高度精確的蝕刻結果。這種蝕刻器/asher也被用於多種應用,包括半導體、IC、PCB和MEMS。
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