二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9193848 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K是一款先進的蝕刻器/asher，設計用於要求很高的半導體工業。該機器能夠以高精度和可重復性將極薄的材料層（如氧化物）應用於表面,因此非常適合數據存儲或DRAM內存等應用。ALD High-K使用一種化學過程，將幹燥的化學前體汽化並註入反應性腔室。然後將腔室加熱，在真空下前體和底物表面之間發生化學反應。反應導致材料的薄膜沈積在基板上，然後多余的材料用清除氣流從腔室中清除。ALD High-K具有16位主處理器和10位數模轉換器，使其能夠精確控制沈積過程的參數，如溫度、壓力和流量。該機器還具有內置的自動調諧功能,可以檢測特定流程的最佳設置,從而無需復雜地調諧流程,從而節省了時間和精力。讓TEL TELFORFORLA ALD High-K真正脫穎而出的是其不可思議的速度；它可以達到高達80nm/min的沈積速率，使其成為最快的蝕刻器/ashers之一。該裝置也是為了長期的可靠性而設計；其全金屬腔室的設計是為了延長壽命，並且具有很高的耐腐蝕能力。ALD High-K還具有直觀和極其用戶友好的控制系統。機器可以使用板載軟件以獨立模式操作，也可以使用集成的串行/USB端口連接到計算機。數字顯示顯示所需的所有基本信息，如沈積時間和前體濃度。綜上所述，TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K是一種先進的蝕刻器/灰化器，能夠提供快速準確的薄膜沈積。該機具有數字顯示屏、16位主處理器、10位模數轉換器以及直觀且用戶友好的控制系統，使其非常適合用於需要對表面進行精密蝕刻的各種行業。