二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9253032 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K是一款用途廣泛且先進的蝕刻器/asher，專門為滿足從事材料化學的研究人員的需求而設計。本機利用原子層沈積技術沈積厚度均勻、化學計量精度高的薄膜塗層。這種先進的蝕刻器/asher具有10微米分辨率的最小特征大小，允許嚴格的過程控制和精確的結果。TEL TELFORMULA ALD High-K專為研發和工業應用而設計，提供半導體、金屬、光刻膠等基材的快速高效蝕刻。灰化器/蝕刻器具有很高的選擇性和均勻性。該系統采用專有的TAFHigh-K工藝,能夠沈積薄膜塗層,對薄膜厚度和薄膜內元素的比例進行非常精確的控制。然後為薄膜層提供超高純度、低表面能、高介電常數和其他所需的性能。High-K TELFORMULA ALD系統以類似聲化學的方式工作，利用熱能快速為分子通電，達到所需的化學計量。TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K設計為在真空環境中連續運行，最大絕對壓力為10 mTorr。該系統配有內置的高分辨率光發射光譜儀，用於分析沈積物制備過程中的性質。OES利用能量分散技術來識別沈積膜中存在的元素，以及膜化學計量和厚度。這一過程還使蝕刻器/asher能夠測量薄膜層在基板表面的均勻性。TELFORMULA ALD High-K還具有集成診斷功能,可對處理條件進行監控,以獲得最佳效果。這種先進的蝕刻器/asher針對各種各樣的基板進行了優化,從矽片到藍寶石層,它提供了交鑰匙自動化,便於操作和最小的停機時間。此外，該機器可以被修改，以適應定制的灰度序列，使其適用於即使是最苛刻的研究應用。