二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9313281 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K是一種先進的半導體器件制造蝕刻和灰化設備。該系統具有高K、多室蝕刻和灰化器，具有多種性能，如化學氣相沈積（CVD）、原子層沈積（ALD）和電化學沈積（ECD）。該單元為高水平的應用提供了無與倫比的精度和控制，例如生產高K型介電材料的超薄層。TEL TELFORFORMULA ALD High-K提供具有多種功能和控制選項的高K多室蝕刻和asher機。蝕刻器/asher設計用於一次處理多個薄膜層,並精確控制每個層的厚度和粗糙度。該工具還能夠通過使用光刻面罩將圖層精確陣列化為所需的形狀。此外，資產還配備了多向等離子體源，可以更好地控制蝕刻/灰分過程。高K多室蝕刻和灰化器提供穩定均勻的沈積，同時提供高質量的選擇性蝕刻和灰分工藝。它還具有卓越的過程重復性，為用戶提供了多層次的蝕刻和灰循環。此外，TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K的蝕刻/灰燼工藝可以適應客戶的特定需求。該模型還配備了多種工藝工具，包括原位離子監測器、原位光譜化學分析儀、蝕刻抗蝕劑應用、原子粒子檢測等。原位離子監測儀是一種先進的分析工具，可以用來精確測量腔室系統中離子的濃度，讓用戶獲得對過程更精確的控制。而原位光譜化學分析儀則可用於監測薄膜層的性能。蝕刻抗蝕劑的應用可用於在蝕刻或灰燼過程前精確掩蔽特定區域，而原子粒子檢查工具則用於測量過程後可能殘留在室內的小粒子。TELFORMULA ALD High-K是一款先進的蝕刻/asher設備，為用戶提供無與倫比的精確度、控制和能力。它提供多種能力，如化學氣相沈積、原子層沈積和電化學沈積，並配有多向等離子體源，以便對蝕刻/灰燼過程進行更大的控制。該系統還提供多種級別的蝕刻/灰分循環以及各種工藝工具。該單元的高K多室蝕刻和灰燼為用戶提供了至高無上的精確度和控制力，使其成為像生產高K介電材料的超薄層這樣要求苛刻的應用的完美選擇。