二手 TEL / TOKYO ELECTRON Telius 305 DRM #293802362 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TELIUS 305 DRM是一款先進的蝕刻或灰化設備，設計用於高平面化蝕刻和各種底物的灰化。該系統對集成電路基板和其他需要增強平面化的材料進行精確的表面修改。Telius 313特別針對2&3-D抗蝕性結構和高縱橫比蝕刻/灰化工藝進行了優化。TEL Telius 305 DRM具有在極低溫度下進行蝕刻和灰化的能力,非常適合使用先進的低k電介質和高電阻率基板。TOKYO ELECTRON TELIUS 305 DRM由帶有兩個垂直反應堆室（或EDAC）的平臺基座組成。每個EDAC都配備了一系列用於垂直蝕刻/灰化的多源RF/DC和遠程等離子體發生器，以及用於水平蝕刻/灰化應用的電子回旋共振（ECR）源。該機組設有兩條氣體分配給每個EDAC的進料線，允許廣泛的氣體用於各種應用。Telius 305 DRM由於具有精確的控制區等離子體，能夠產生質量極高的平面化表面，具有卓越的間隙填充能力和最小的殘留物產生。該機器還能夠產生非常幹凈的槽和不均勻的無間隙輪廓，即使在高縱橫比。這使得TEL/TOKYO ELECTRON TELIUS 305 DRM特別好於各種材料的蝕刻和灰化，包括光致抗蝕劑、矽片、III-V半導體和聚合物。TEL Telius 305 DRM熱預算低，只在材料上產生極小的熱應力，因此適用於先進的低k介電蝕刻/灰化。這種工具還具有極高的吞吐量，因為它獨特的兩腔結構，允許同時蝕刻和灰化多個晶圓。TOKYO ELECTRON TELIUS 305 DRM還提供了非常高的過程均勻性和可重復性，其前所未有的間隙填充功能使偶數層在小至0.2微米的間隙尺寸上得以平面化。Telius 305 DRM非常適合各種基板的高平面化蝕刻和灰化,其特別先進的功能使其成為先進的低k介電灰化/蝕刻的理想選擇。其廣泛的特點，包括精確的溫度控制，以及高通量和工藝均勻性，使其成為各種材料蝕刻和灰化的絕佳裝置。