二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias ALD #9294449 待售

ID: 9294449
CVD System, 12" Process: TiN 2013 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS ALD(原子層沈積)是一種蝕刻器和灰化器,用於創建厚度精確、覆蓋跨表面的薄膜。它設計用於沈積厚度範圍從一個原子層到幾百納米的薄膜,允許在分子水平上進行精確的薄膜沈積。TEL Trias可以處理各種不同的沈積任務。它通過包括溫度、速度、方向和時間在內的控制級別提供高精度和準確性。TEL Trias ALD配備了多個控制器,允許精確一致的操作。載荷鎖定功能允許晶片的裝卸,而無需在設備中引入汙染物。它還具有多軸運動控制器,有助於確保晶片的可重復運動和精確定位。Trias還包括一個強大的排氣和洗滌系統,有助於在沈積過程中達到更高的純度。TOKYO ELECTRON TRIAS配備了先進的ALD氣體面板,用於精確控制氣流、溫度和壓力。該裝置還包括一個溫度控制器,該控制器在沈積過程中監視和自動調節晶片的溫度,確保均勻性和質量。TOKYO ELECTRON TRIAS ALD還設計了安全功能,如封閉機櫃和鑰匙鎖,可確保防止未經授權進入。它還具有緊急關閉開關以及在機器發生故障時自動關閉的功能。總體而言,TEL/TOKYO ELECTRON Trias是一款先進的蝕刻器/asher,配備了一系列特性和功能,以保證微觀層面的精密薄膜沈積。它設計用於精確和可重復的沈積過程,提供高水平的純度和均勻性。該工具非常適合先進薄膜材料在半導體、塑料包裝和醫療行業的沈積。
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