二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias Ex-II #9351479 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS Ex-II是專門設計用於電子器件制造的蝕刻器或asher。它是一種化學氣相沈積（CVD）設備，能夠將介電或金屬材料的厚膜沈積在SiC、SiO2和TaN等基板上。TEL Trias Ex-II在非常緊湊的設計中提供了快速、精確和高度可重復的工藝,使其適合制造較小的設備。該系統采用了專利的多槍技術，帶有可調節的Loadlock腔室，能夠處理尺寸不超過450毫米的基板。它非常適合納米技術領域的各種先進研究和產品開發應用。TOKYO ELECTRON Trias Ex-II是使用等離子體增強CVD（PE-CVD）沈積各種薄膜的先進裝置。它有一個獨立的、帶有桿和上部淋浴頭的三槍腔室設計。每把槍由各自的駕駛員和發射器控制。通過將PE-CVD與下遊蝕刻相結合，它允許沈積一個完整的致密薄膜結構，並有最少的處理步驟。機器配備了多種自動化功能，簡化了沈積過程。其中包括自動校準和選擇適當的工藝參數,以及自動提高最佳沈積性能的自動層厚度優化器（OTR）。此外，Trias Ex-II能夠進行溫度處理，並為沈積膜增加應力，以模擬現實生活中的條件。該工具還包括提供實時串聯晶圓控制的Platinum 5.5 EndPoint Monitor,允許精確的層級控制和更高的最終工藝產量。它采用先進的聯鎖裝置設計，以確保環境清潔，並具有排氣和卸載能力。總體而言，TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS Ex-II 蝕刻器/asher是一種功能強大且用途廣泛的蝕刻資產，非常適合制造先進的微電子器件。它提供了一個精確、高度可重復的過程,具有快速的吞吐量以及出色的層和端點控制,從而可以制造產量更高的設備。