二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias SPA #9205617 待售

ID: 9205617
晶圓大小: 12"
優質的: 2010
CVD System, 12" 2010 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS SPA是一種蝕刻器/asher,設計用於薄膜沈積在基板上。它被設計為能夠在特定區域內提供均勻的薄膜沈積,具有卓越的精度和控制能力。此蝕刻器/asher是使用提供直觀用戶界面的操作設備構建的。它利用多種輸入/輸出設備,如計算機、觸摸面板和顯示屏,提供對操作過程的全面控制。該系統包括一個沈積室、一個真空單元、一個氣體輸送機以及一個泵和閥門工具。它還包括射頻發電機和控制過程的控制單元。蝕刻器/asher利用高頻等離子體發生器在沈積室內創建一個均勻的等離子體。對於所需的薄膜材料,等離子體發生器調諧到預定頻率.這允許精確控制濺射過程,在整個基板上提供均勻的沈積。蝕刻器/asher可用於沈積各種材料,如鋁、鋅、鈦,以及多種薄膜,包括結晶和無定形材料。資產還可以將金屬,如銅和銀,沈積在廣泛的基板上,包括矽片、塑料片和玻璃。此外,它還可用於從多種角度沈積底物,包括蒸氣沈積、膠體沈積和電子束沈積材料。它還具有存放多層薄膜的能力。蝕刻器/asher配備了一組特性,允許精確和可控的薄膜厚度。這些特性包括可定制的沈積速度、真空水平、壓力、射頻功率和腔室溫度水平。此外,可以使用惰性氣體屏蔽來控制沈積速率和防止有害物質的沈積,以及在沈積室內提供惰性環境。蝕刻器/灰化器能夠在一定溫度和氣體流動範圍內提供統一、超精確的沈積速率和過程控制。它能夠沈積厚度可達50 nm和更大的薄膜,並具有可重復的可重復性和從運行到運行的均勻性。這提高了產品的精度,減少了運行之間的差異,從而提高了產量並提高了性能。TEL Trias SPA 蝕刻器/asher是一種可靠、耐用的產品,可在基板上提供均勻沈積的高精度薄膜。使用方便,控制性強,可用於沈積多種不同的材料。它是一種高效的工具,可以幫助提高任何薄膜沈積工藝的質量和生產率。
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