二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293778167 待售

ID: 293778167
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
Metal Chemical Vapor Deposition (CVD) system, 12" Loader module (2) Loadlock modules Loader arm Transfer arm (3) Front Opening Unified Pods (FOUP) Orienteer unit Transfer module (2) Process modules 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias是一款先進的蝕刻器/asher,用於在集成電路的創建過程中,在半導體晶片中創建復雜的圖樣和不同的形狀。TEL Trias與計算機控制的舞臺配合工作,能夠輕松準確地產生精確的結果。TOKYO ELECTRON TRIAS用於生產廣泛的電子元件,如晶體管、二極管和其他微電子元件。Trias有一個高壓批蝕刻設備(HEBS)腔室,使高縱橫比蝕刻具有精確的厚度控制。腔室允許精確控制時間、溫度、壓力、化學等蝕刻參數。TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS為精確的特征尺寸和可重現的性能,利用自旋光刻塗層系統進行均勻塗層,並易於去除光刻膠。TEL Trias的集成過程控制單元旨在提供強大的實時控制功能。此機器監視、校準和管理腔室內的過程參數、配方和變量。它還有助於保持生產質量,並將工藝參數保持在可接受的範圍內。先進的工藝控制工具還允許用戶即時進行調整,以適應工藝參數和環境條件的變化。TOKYO ELECTRON TRIAS高度適應當今的工藝要求,提供高效、可重復、可靠的蝕刻工藝。Trias具有高性能的蝕刻和沈積過程、均勻的表面光潔度以及先進的程序管理功能,可提供突破性的性能。TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS能夠放電0.1至150升的體積,可以處理直徑達4英寸的晶片。TEL Trias還具有智能警報資產,用於預測、監視和防止過程錯誤和汙染物。總體而言,TOKYO ELECTRON Trias是一款先進的蝕刻器/asher,提供精確的控制和可重復的性能,並確保可靠的結果。憑借其高性能蝕刻、先進的程序管理能力和智能報警模型,Trias提供了高吞吐量和延長使用壽命的可靠結果。
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