二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293821837 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Trias
ID: 293821837
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
Metal Chemical Vapor Deposition (CVD) system, 12" Process: Ta₂O₅ Thin-film deposition (2) Chambers 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias是一款針對半導體等行業的高性能等離子體蝕刻器/asher。用於精確、安全地蝕刻/蝕刻小型半導體結構和晶片。它采用模塊化設計和集成過程控制軟件,提供高效、經濟高效且先進的蝕刻/刻蝕過程。TEL Trias為各種等離子體蝕刻/灰化操作提供了一個通用平臺。TOKYO ELECTRON TRIAS的設計旨在為單面和雙面晶片、陶瓷塗層、金屬塗層和石英塗層晶片等多種基材提供最高精度的蝕刻/灰化。它能夠加工各種材料類型的產品,包括晶體、多晶體、陶瓷、矽膠等。它還具有非常精確的壓力控制設備,允許非常高的蝕刻速率精度和可重復性,允許以極高的精度蝕刻復雜的過程。Trias有幾種操作模式,如預濺射、濺射、蝕刻和濺射/蝕刻,以及一次執行一次操作的能力,或者一起執行多個操作。集成過程控制軟件能夠通過單個按鈕操作同時監控和訂購幾個不同的進程。此外,TEL/TOKYO ELECTRON Trias能夠存儲多達99個預先編程的配方步驟,從而實現最佳蝕刻/灰化操作。TEL Trias還具有高速自動配方控制(HSAR)系統,該系統為用戶提供了快速方便的訪問可定制配方的途徑,這些配方可用於以精確、準確和可重復性蝕刻材料和晶圓尺寸的各種組合。此外,用戶友好型軟件還具有集成的冷卻單元,可實現快速冷卻並防止晶圓翹曲。此外,自動化的「智能家居」功能可確保每項工作的所有組件和附件都處於正確位置,從而消除了耗時的安裝準備工作。最後,TOKYO ELECTRON Trias配備了一臺長期的數據記錄機,記錄所有與蝕刻/灰化操作相關的數據。這些數據可用於工廠管理、流程開發、缺陷分析等。記錄工具還具有順序數據格式的事件歷史記錄,允許用戶分析處理過的晶片並調查潛在問題。
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