二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9049825 待售
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已售出
ID: 9049825
晶圓大小: 12"
優質的: 2009
CVD System, 12"
(2) Chambers: CVD & ALD
Process: NiOx, HfOx
Trias cluster: (2) Loadports
EX Module, PM2
LM: Front end / UPS
Main power distribution (MPD)
Transfer module, TM
High-k CVD reactor (PM4):
Thermal based deposition
Plasma capability: No
Includes: Spares
High-k CVD reactor, PM2:
Retrofitted for thermal ASFD (ALD) based deposition
Plasma capability: No
Includes:
Ozone capability
LDS Systems:
(3) Schumacher chemguard LDS (Air products)
Multi candi LDS (Air liquid)
PM2:
Hafnium
Nickel
Titaan
Vanadium
PM4:
Hafnium
Nickel
Titaan
Ruthenium
Strontium
PM4 Transformer box (Hi-K) option elec box:
(2) Touch screens ozonizer, PM2
(3) H2O Boxes: Air products schumacher CGII500 LDS
Process used: NiOx
Complete platform + (2) chambers CVD & ALD
Trias cluster
(2) Loadports
Manuals included
2009 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias是一款多功能蝕刻/asher設備，專為先進的半導體器件制造而設計。它采用先進的堿性灰化工藝，采用感應耦合等離子體源對樣品進行高速、高密度的幹洗。該系統還為超高密度設備提供了一個先進的幹蝕刻平臺，並提供了一套用於蝕刻III-V設備和納米線結構的工藝。TEL Trias單元具有完全可調節的腔室和氣體輸送機，允許對腔室條件和氣流、蝕刻速率、溫度、壓力等蝕刻參數進行精確控制和優化。這確保了出色的重復性和均勻性蝕刻結果。該工具還具有一個高效自動化樣品裝卸的綜合機器人機制，無需人工裝卸樣品。此外,TOKYO ELECTRON Trias資產還提供集成的流程診斷和監控工具以及實時優化功能,從而實現更準確的流程控制並提高產量。Trias模型支持廣泛的蝕刻氣體，包括氯氣、氟氣、三氟化氯和四氟化氮。它還有一個原位氣體輸送設備，具有一致的工藝性能和優異的可重復性。可以輕松調整蝕刻過程,以滿足特定的設備要求。該系統還具有一個多波長光譜監測單元，可根據特定設備要求優化蝕刻結果。該機能夠利用光發射光譜實時測量蝕刻過程，並包含用於優化蝕刻過程的數據分析包。TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS工具利用先進的安全和環境控制技術來確保蝕刻過程的清潔、幹燥和安全操作。它還為緊湊的占地面積而設計,可輕松安裝在標準的研究實驗室中,使其成為當今研究和設備制造需求的理想且經濟高效的選擇。
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