二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9226880 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS是專門為從底物中去除氧化物、聚酰亞胺、金屬和光致抗蝕劑而設計的蝕刻器/asher。該蝕刻器采用基於氯化物的等離子體蝕刻技術，以最小的介電損傷和精確的蝕刻模式控制，快速、精確地去除不需要的材料。TEL Trias適合在氧化基基板上使用，如SiO2，蝕刻時間少於20分鐘/運行，並且具有-35°C至+35°C的寬工作溫度範圍。TOKYO ELECTRON TRIAS的蝕刻過程利用了三個主要成分：蝕刻氣體、射頻電源和蝕刻板。蝕刻氣體通過蝕刻板推進，在那裏轉化為低壓等離子體。這種等離子體與基板上的目標材料發生反應，直接將其電離並踢出揮發性粒子，同時加熱目標材料，使它們能夠被蝕刻掉，而基板上幾乎沒有任何宏觀區域損壞。射頻電源產生射頻電壓，也用於激發蝕刻氣體，產生低壓等離子體。射頻發生器具有從0.3 MHz到1MHz的各種工作頻率以及從第一脈沖到第二脈沖再到任意第三脈沖的各種射頻功率。較快的脈沖通常用於增加電弧向下濺射（硬質材料去除），而較長的脈沖則可增加宏觀面積的損害。可以調整功率和頻率的精確組合，以創造基板上材料的最佳蝕刻條件和圖案。Trias的蝕刻板由石英構成，旨在將等離子體均勻地分布在基板表面，設計用於最大程度的蝕刻效率和均勻性。具有最大3英寸基板尺寸和低至0.1mm晶片步長的能力,蝕刻板可確保在整個基板上實現均勻蝕刻。蝕刻器/asher TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS是從底物中精確去除氧化物、聚酰亞胺、金屬和光致抗蝕劑的高效、精確的工具。TEL Trias憑借其易於使用的界面、可調節的頻率和功率設置以及石英蝕刻板，是用於研究和生產應用的蝕刻和灰化基板的完美解決方案。