二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9357277 待售
網址複製成功!
ID: 9357277
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
CVD System, 12"
Process: BL GL TiN Dep
BROOKS AUTOMATİON TLG-LON Load port, (3) FOUPs
SHINKO SELOP12F25-30A-13
SHINKO SBX92101286-3 FI Robot
FUJI M-UPS050J22L-UL UPS
SANEI GIKEN TL7KCPVB-2P Chiller
MPD
Transformer box
Mainframe:
YASKAWA XU-RVM4100 Buffer robot
V TEX I-I-98009-2-1 LLM1.2 Gate valve
KITZ DOUBLE ACTION Chamber gate valve
Process chambers: PM1, PM2, PM3, PM4
Single wafer chamber
With stage heater
RKC INSTRUMENT INC Module heater controller
TEL TMC2001 Module heater controller
Cubic trap
VERIFLO SQ-MICRO-602PUPGPA Regulator
LEYBOLD TSR211S Pirani sensor
INFICON VSA100A Pressure Sensor
MKS 626A01TDE Capacitance manometer
LEYBOLD CDG160A-S 1330PA Capacitance manometer (1333Pa)
LEYBOLD CDG160A-S 133PA Capacitance manometer (133KPa)
STEC VC131004ST20 Vaporizer (TiCL4)
Gases:
Gas / Make / Model / Valve
MFC2 / ClF3 / SAM / SFC1470FA / 500 SCCM
MFC3 / N2 / SAM / SFC1480FAPD / 0.6/2 SLM
MFC5 / NH3 / SAM / SFC1481FA / 5 SLM
MFC6 / NH3 / SAM / SFC1480FAPD / 300 SCCM
MFC7 / N2 / SAM / SFC1480FAPD / 0.6/2 SLM
MFC8 / NH3 / SAM / SFC1480A / 1 SLM
MFM / TiCl4 / STEC / SEF-8240 / 100 SCCM
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias是一款為復雜和先進的微加工應用而設計的蝕刻/asher設備。具有高吞吐量、高工藝控制的經濟高效生產能力。該系統融合了三軸級用於精確晶圓對準、自動映射單元以確保均勻蝕刻等功能。該機器能夠處理6「至12」的晶圓尺寸。它還可以估計每個應用程序的蝕刻時間,因此用戶可以最大化生產吞吐量。它使用感應耦合等離子體源在整個晶片區域提供均勻蝕刻。TEL Trias工具具有先進的腔室設計以減少汙染。它包括一個高性能的圓柱泵和一個大容量的儲物箱,以減少排氣時間。盒子裏還裝有動態凈化資產,以確保可靠的蝕刻條件。該模型是過程自動化的,以確保生產效率和質量。提供自動聚焦系統和自動映射,以加快流程設置和完成時間。集成蝕刻室設計為在整個過程中均勻性和可重復性。設備中還包含一整套流程監控功能。這包括工藝參數的多通道實時監控、泄漏檢測、壓力平衡監控、晶圓對準等工藝參數。每個應用程序的所有參數都是可調的。該系統還具有一個聯機幫助功能,其中包含有關設置、操作和故障排除的全面信息數據庫。提供錯誤報告和警報,以幫助用戶快速識別和解決與流程相關的問題。最後,該裝置有幾個安全功能,旨在確保操作人員在蝕刻過程中的安全和可靠性。其中包括正壓隔離機、射頻泄漏檢測器、排氣控制工具和其他安全功能。
還沒有評論