二手 TEL / TOKYO ELECTRON Unity II 85DD #188831 待售
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ID: 188831
Dry Etch/Oxide, 8"
SMIF Interface Ready
Software version: 3.00 Rev 206-PMS-3.11a
Chambers:
PM 1: Unity II 85 DRM Oxide Etch
ESC Type: Ceramic
Process Kit Material: Quartz
Lower RF: ENI OEM-25B
Turbo: Ebara ET600WS
PM 2: Unity II 85 DRM Oxide Etch
ESC Type: Ceramic
Process Kit Material: Quartz
Lower RF: ENI OEM-25B
Turbo: Ebara ET600WS
Process Kit:
Botttom Electrode: 1D10-100582-14
Upper Electrode: 1D10-201429-15
Focus Ring: 1D10-302209-14
Plate Baffle: 1D10-100854-14
Shield Depo: 1D10-303124-16
Ring Insulator: 1D05-300052-13
Cover Bellows: 1D10-200734-14
Chiller: SMC INR499-201
1997 Vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UNITY II 85DD是一種asher/etcher設備,設計用於半導體制造過程中的清洗、紋理和蝕刻矽片。該系統旨在為清潔和蝕刻等應用以及微機械應用提供精確、可重復的結果。使用TEL Unity II 85DD,用戶可以使用直觀的圖形用戶界面(GUI)或強大的命令語言對進程進行編程。該設備采用8.5英寸全彩色SVGA觸摸屏,易於操作和編程。該單元具有四個與基礎單元相連的獨立工藝室,從而實現了高效的多室晶片處理。腔室的最高工作溫度為400°C,設計用於幹濕工藝。TOKYO ELECTRON UNITY II 85 DD提供了廣泛的工藝能力,包括等離子體蝕刻、金屬氧化物/氫蝕刻、聚合物蝕刻和抗蝕膜。該機還具有集成氣體處理能力和低流量自動氣體切換,以盡量減少化學廢物。UNITY II 85 DD提供具有6軸精度和控制的精確過程控制。用戶可以實時對配方進行編程和監控,從而可以快速修改中期運行的流程。可以以數字方式導出工具數據,以便於解釋結果,而TEL UNITY II 85 DD具有自動調整功能,可優化設置以實現最大的吞吐量和結果的可重復性。除了標準配置外,該單元還可以配備多種配件和集成技術。Unity II 85DD與一系列端部效應器兼容,包括刷子、磁鐵、散熱器和噴嘴歧管。集成的選項,如自動晶圓處理、自動氣體處理和自動壓力控制,進一步簡化了流程。總之,TEL/TOKYO ELECTRON UNITY II 85 DD為各種應用提供了功能強大、易於使用的蝕刻和清潔資產。它是按照精確的規格構建的,具有集成的電動階段,以及直觀的圖形界面,允許用戶快速、輕松地編程和執行流程序列。該設備具有自動處理選項和高級工藝功能,是各種規模的制造商的理想解決方案。
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