二手 TEL / TOKYO ELECTRON Unity II #184470 待售

TEL/TOKYO ELECTRON UNITY II是一種用於制造先進半導體器件結構的蝕刻/asher設備。它是利用氣相反應室實現底物蝕刻和灰化的全自動系統，導致原子級精密薄膜厚度控制和整個晶片的高均勻性。該機能夠支持多種工藝，並配備了HF（蝕刻）、ICP（蝕刻）、CVA（CVD）、退火和幹蝕刻等先進工藝。該單元適用於包括3 D電容器制造、通過孔填充、金屬化、剛性和柔性基板蝕刻、超光滑表面蝕刻等多種應用。TEL Unity II專為單晶片蝕刻、灰燼和序列外沈積而設計。它具有自動化的負載鎖定機、負載監控和過程控制功能。蝕刻器/asher工具的設計目的是通過包括聚酰亞胺、聚對苯二甲酸乙二酯、金屬和矽基介電材料在內的多種材料來提供穩定的工藝控制和提高工藝產量。其先進的規劃和測試功能,包括薄膜質量監控、均勻性評估以及具有可變幾何形狀的樣品目標蝕刻,有助於確保過程優化。TOKYO ELECTRON UNITY II 蝕刻器/asher資產中的氣相反應室采用動態壓力控制操作，使過程具有靈活性。腔室的Z方向晶圓流設計允許使用In-line和Coulombic self-bias （CSB）技術的一系列復雜蝕刻操作。該室還配備了串聯反應監測器，用於監測蝕刻活性和反應條件。Unity II 蝕刻器/asher模型還包括精密的圖形處理軟件和真空室控制系統，以利於過程優化，減少刀具停機時間和改善多晶片操作的設備連續性。此外，該系統還具有多種安全特性，如冗余PID控制和射頻或微波網絡的選擇。TEL/TOKYO ELECTRON UNITY II 蝕刻器/asher單元是一種用於設備制造的精密工具，設計用於連續、可靠的操作。蝕刻機具有先進的特點和堅固的工程性能，能夠制造出具有原子尺度控制和高度均勻性的極其復雜的結構。它是在生產速度下快速生產具有緊密公差要求的高性能半導體元件的理想選擇。