二手 TEL / TOKYO ELECTRON Unity IIe 855DP #293645124 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
TEL/TOKYO ELECTRON UNITY IIe 855DP是一種為微電子器件制造而設計的先進蝕刻/asher設備。該系統具有許多先進的功能,使其與競爭對手脫穎而出。通過將可調節的晶圓升力與允許自動調節以優化薄膜生長均勻性的工藝控制單元集成在一起，設計出最佳的效率和吞吐量。該機還具有較大的腔室尺寸，為處理更大的晶片提供了更大的靈活性和工作空間。TEL Unity IIe 855DP具有獨特的雙頻蝕刻工藝，允許它在高頻和低頻同時蝕刻，不需要多個蝕刻器。此功能可確保在不同晶圓尺寸上實現完整的蝕刻均勻性,同時還可提高吞吐量。此外,該工具的軟件用途廣泛,可以根據應用程序來適應自定義配方。TOKYO ELECTRON UNITY IIE 855 DP能夠以快速的處理速度蝕刻高品質的薄膜。它可以蝕刻直徑達8英寸、厚度達8英寸的薄膜，每晶圓只需3.5分鐘。該資產還與眾多工藝氣體兼容，如CF4、CHF3、SF6、Ar/N2和He/N2，使其能夠蝕刻不同的材料。它還具有高電流設計（最高500A）和精確匹配的網絡，以幫助減少影片中的高頻噪聲。該模型還包括多種傳感器，如渦流傳感器、離子計、雙壓力電離室以及用於測量蝕刻過程劑量反饋的數字電容EV設備。這樣可以實現精確的蝕刻條件並提高晶片的均勻性。TEL/TOKYO ELECTRON UNITY IIE 855 DP也有兩個內建的製程端顯示器，提供對薄膜沈積和蝕刻深度的精確控制。UnityIIe 855DP 蝕刻器/asher的設計是為了使微電子器件的蝕刻和灰化具有最大的性能和精度。其雙頻蝕刻工藝、高電流設計、大腔室尺寸、多種傳感器，非常適合廣泛的蝕刻和灰化應用。其快速的蝕刻循環時間和與許多工藝氣體的兼容性使其成為高通量設備制造的理想選擇。
還沒有評論