二手 TRION APO III #9216394 待售
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ID: 9216394
晶圓大小: 4"
ICP Etcher, 4"
No RIE
Process:
Descum
Ashing with downstream O2 plasma
MFC: O2 2000 SCCM
Heated platen
Heated end effector
Power: 220 V, 60 Hz, 15 A, 3 Phase, 1250 W.
TRION APO III是專門為光掩模工業的生產過程而設計的高分辨率蝕刻器/asher。APO III在快速、準確地蝕刻或粉刷光掩模的同時實現了最大分辨率精度和均勻性。TRION APO III旨在實現重復一致的性能和易於操作。APO III是一個集成設備,由一個完全封閉的工藝室、掩模處理模塊以及控制和監測系統組成。該工藝室配有兩個精密調節離子源和四個加工室。掩碼處理模塊有一個自動掩碼與基板對齊單元，以便於加載和掩碼對齊。TRION APO III控制和監測機包含壓力控制、射頻調節、配方生成、監控和診斷。APO III最大分辨率為0.010微米，均勻性和可重復性為+/-0.0005微米。第一級蝕刻工藝產生的蝕刻速率介於10-20埃/秒之間,每個掩模可偏置蝕刻高達1000埃。TRION APO III還用HF和HCI進行濕/幹處理，為各種不同的應用創建應用於光掩模的硬掩模層。APO III通過其多級蝕刻過程提供了靈活性,通過在一個過程周期中蝕刻多層,可以提高吞吐量。TRION APO III還具有強大的高容量冷卻工具，有助於在長蝕刻周期內保持最大的工藝重復性。此外,APO III專為大批量生產而設計,可提供全自動模式/對齊測試和維修功能。最後，TRION APO III設計為方便用戶和操作安全。通過液晶顯示屏觸摸屏，用戶可以輕松設置和監控蝕刻過程，並在過程中查看各種診斷。該資產還配備了氣體報警器、腔室幹燥機、氣體泄漏/超壓檢測監測等安全系統，促進了更安全的操作環境。
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