二手 TRION Minilock Orion II #9195271 待售
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ID: 9195271
優質的: 2001
PECVD Load lock triode system
(6) MFC: CF4, O2, TEOS, DES, NH3 and N2 for purge
Automatic purge (Gas cabinet)
Ceramic ring focuses plasma
Optimizing power utilization
Bottom and top electrodes are water cooled
Chamber equipped with: (2) Circular quartz viewing windows
Primary chamber material: Anodized aluminum
Components: Ceramic / Quartz
Computer has been replaced
Bottom electrode temperature: Resistive heater / IR Thermocouple
Upper electrode
Shower head gas distribution
Substrate loading system: Robotic / Manual
Ceramic upper chamber ring
Bottom chamber
AC Distribution / EMO
Gas cabinet: Mass flow controllers
Bottom electrode:
ADVANCED ENERGY Variable: 300-500 Watts (350-460 kHz)
AE RFPP LF-5 RF Power supply (Low frequency: 50-460 KHz)
Top electrode:
Triode source
ADVANCED ENERGY AE RFG 600 Watts
For film stress control capability 3001: 13.56 MHz
Includes:
EDWARDS QDP40 Drystar dry backing vacuum pump 230 VAC, 3 Phase pump
OSAKA TS443 Helical grooved turbo pump & controller
MKS 153 Throttle valve & controller
2001 vintage.
TRION Minilock Orion II是一款高性能蝕刻器/asher，用於制造集成電路、芯片封裝和其他電子元件。其緊湊的設計和多用途的特性為廣泛的應用提供了高效、精確的材料處理。Minilock Orion II可以以2,500 rpm的最高速度同時處理多達五層材料,以獲得最佳吞吐量。TRION Minilock Orion II的功能包括高精度的運動設備、一套全面的安全特性、變速速率，以及一個全金屬的腔室以更快的蝕刻。它還內置了材料識別軟件，以簡化編程並確保精確和可重復的結果。為了增加靈活性，Minilock Orion II可以定制附加配件，如擴展室、集成安全圈和自動化物料處理系統。TRION Minilock Orion II由低維護的直接驅動電動機提供動力，該電動機由雙級進給系統支撐。這允許精確的材料定位和更高的精度，同時蝕刻。使用可調節噴嘴和手動對焦控制單元可精確調整到精確位置。其溫度範圍可調整至低至-40°C的溫度進行精細蝕刻，而水冷卻機則可確保裝置的可靠性。Minilock Orion II旨在提供無與倫比的可靠性和靈活性,並且易於與其他設備集成。它還配備了廣泛的監控能力，在蝕刻過程中為用戶提供準確的數據。這款蝕刻器/asher的先進安全特性使其適合廣泛的生產和研究環境中使用。
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