二手 TRION Orion III #293800217 待售
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ID: 293800217
優質的: 2020
PECVD System
27-CFM Rotary vane pump
Oil filter
Demister
Fomblin oil
Wall-mount MFC Cabinet with blank slot for future N2O MFC
Phantom LT Reactive Ion Etcher (RIE)
60-CFM Non-corrosive dry pump
Recirculating temperature controller
2020 vintage.
TRION Phantom LT是一款先進的蝕刻/asher設備,設計用於半導體制造過程中的高性能和多功能性。這款尖端工具融合了創新技術,為各種應用提供精確、均勻的等離子體處理,包括蝕刻、灰化、降序和光阻剝離。Phantom LT的關鍵特性之一是它的多重處理能力,允許各種等離子體過程的定制以滿足特定的要求。該系統配備了高頻射頻電源和一系列氣體註入選項,使用戶能夠控制壓力、氣體流速、功率水平等參數,以獲得最佳工藝性能。此外,該設備還配備了高級端點檢測功能,以確保準確的過程控制和端點確定。TRION Phantom LT采用雙氣線設計,允許對兩種工藝氣體進行獨立控制,從而能夠執行具有不同氣體化學成分的復雜工藝。這種靈活性使得該機器非常適合廣泛的應用,從蝕刻二氧化矽和氮化矽到剝離光致抗蝕劑和清潔基板表面。該工具的腔室由高質量的鋁構成,設計為在晶圓的整個表面提供均勻的等離子體分布。這確保了一致的處理結果,並最大限度地降低了不均勻蝕刻或灰燼效應的風險。腔室還配備了溫度控制功能,以優化工藝穩定性和可重復性。Phantom LT結合了先進的等離子體生成技術,利用高密度等離子體源實現高效、均勻的處理。這使得能夠快速有效地從半導體基板中去除有機和無機材料,從而產生高質量的蝕刻和剝離結果。該資產還配備了動態氣體註入模型,該模型增強了過程控制,並能夠精確調整過程參數以獲得最佳效果。設備的用戶友好界面和直觀的軟件使操作和過程監控變得簡單高效。軟件提供實時流程數據可視化,使用戶能夠監控壓力、溫度、功率和氣體流量等關鍵參數。此外,系統的配方管理功能允許輕松進行流程優化和控制,從而確保一致且可重復的結果。總之,TRION Phantom LT是一個最先進的蝕刻/asher單元,為半導體制造應用提供無與倫比的性能和靈活性。憑借先進的等離子體處理能力、精確的控制功能和用戶友好的界面,該機非常適合廣泛的過程,從蝕刻和剝離到清潔和表面修改。無論是用於研發還是大批量生產環境,Phantom LT都能提供可靠、高質量的成果,使其成為半導體制造的寶貴工具。
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