二手 TRION Phantom II #9069756 待售
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已售出
ID: 9069756
RIE Etch System
Chiller: LYTRON RC022J03BG2
Vacuum pump: ALCATEL TY 2033
(4) MFC's: UFC 8100
Gases used: O, CHF4, N, CCF4, Ar.
TRION Phantom II是一款高性能的蝕刻器/asher,旨在實現精確高效的晶圓或設備處理。這個功能強大的蝕刻器/asher利用背景氣體的高密度等離子體來創建受控蝕刻輪廓。利用氯氣、氟氣和氧氣的源氣體,這種設備可用於制造垂直壁和精密的表面蝕刻,用於各種應用,如微電子封裝、高技術部件、mems/nano和相關設備。Phantom II利用車載三軸機器人直線電機系統和先進的三維運動控制,提供蝕刻自動化。該單元提供了從單片片到長晶片運行的最大速度、精度和可重復性。健壯的機器人機器步進精度為+/-0.5mm,加速度和減速都很高。為了提高工具的生產率,TRION Phantom II具有直徑可達20英寸的晶圓能力。它最多可包含位於外部和內部的八個工藝模塊,允許在工藝室內使用最多六個工藝模塊和兩個外部模塊進行雙側處理。資產還具有高效的氣體控制技術,允許存儲和召回多個蝕刻配方或工藝,以便於重復晶圓工藝循環。板載軟件控制允許在過程中實時調整配方參數,從而允許針對特定產品設計微調蝕刻特性。考慮到用戶的安全,采用全球排氣過濾模型,以盡量減少微粒的產生和排放。設備有一個集成的泄漏檢測系統,可以檢測外殼內的微量氣體濃度。軟件單元的存在不僅允許過程自動化的步驟,還提供了多種數據收集工具,提供實時晶片條件、蝕刻速度和床溫度等信息。這使用戶可以更深入地了解過程中的參數,並有助於縮短生產時間。Phantom II是一款高性能的蝕刻器/asher,旨在實現精確高效的晶圓處理。利用具有步進精度的三軸機器人運動控制機,該工具還具有高效的氣體控制資產、直徑可達20英寸的晶圓處理能力以及集成排氣過濾和泄漏檢測系統等安全特性。利用其數據收集功能,該模型可以讓用戶更深入地了解蝕刻過程,從而有助於縮短生產時間並產生增強的結果。
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