二手 TRION Phantom II #9219813 待售
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ID: 9219813
優質的: 2010
Reactive ion etcher (RIE)
ICP System
Chamber, 8"
Gases: SF6, He, CHF3, CF4
Foot print:
Width: 0.9m
Length: 0.9m
Operating system: Windows 2000
Power supplies: 230 V, 50/60 Hz, 1 Phase
2000 vintage.
TRION Phantom II是一款先進的蝕刻器/asher,用於多種表面處理。它是各種材料和工藝的絕佳選擇。該機器采用電離反應,使其能夠取得優異的收率和質量結果,其先進的設計提供精確的控制和總的可靠性。Phantom II設計具有易於使用和直觀的界面,允許快速、準確的操作,並且只需最少的培訓。它的綜合運動控制設備確保其過程準確和可重復,以確保一致的結果。除了出色的運動控制系統外,TRION Phantom II還具有先進的控制單元。這臺機器可用於監控流程、創建功能程序和訪問一系列全面的技術信息。此控制工具可確保一致結果的準確性和可重復性。除此之外,Phantom II還提供高級冷卻資產,可確保精確蝕刻和灰化,同時還提供高效的溫度管理。這種冷卻模式是確保一致結果的關鍵,尤其是在使用精細材料時。最後,TRION Phantom II還具有廣泛的安全功能,可保護用戶和正在處理的材料。其中包括保護免受雜散粒子侵襲的安全屏蔽,以及用於精確控制的數字讀出。機器還具有一系列保護其內部工作的功能,如檢測到過熱時自動關閉。Phantom II是一種高度先進的蝕刻器/asher,可為各種材料和工藝提供精確的結果。它非常適合一系列工業應用,特別是在需要重復和一致結果的地方。憑借其直觀的設計、先進的控制和監控系統以及安全特性,TRION Phantom II是一款能夠滿足各種需求的有價值的機械。
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