二手 TRION Phantom III #9039842 待售

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ID: 9039842
RIE / ICP System, parts machine Bottom electrode: 8” Vacuum port: 6" System controller: Pentium computer, touch screen (4) Mass flow controller gas channels Automatic pressure control Automatic RF tuning of bottom electrode, RF generator: 600 watt 13.56 MHz Automatic RF tuning of ICP coil, RF generator: 600 watt 13.56 MHz RF generator Cryogenic chuck: 100mm wafer, temperature control, -50ºC to 100ºC Electrostatic chuck: 6", He backside cooling Emergency on/off with AC power distribution box Components: High vacuum Pump: Osaka TG1003BW Osaka TC1003 controller Backing mechanical pump: none High vacuum valve: VAT 98801-R1 valve Chamber pressure transducer: MKS 627 RF1 Generator: Comdel CX-600AS, RF1 automatch = Trion OEM RF2 Generator: Comdel CX-600AS, RF2 automatch = Trion OEM Heat exchanger: none Chuck heat exchanger: Julabo LH85 Elecrostatic Chuck: Gripping Power EPS300 Gas Controls: Separate exhausted cabinet for gas mixing He backside MFC: MKS 649A, 10sccm Cal’ed for He, used with He Gas 1 MFC: Unit 8100 250 sccm, Cal’ed for N2, used with CF4 Gas 2 MFC: Unit 8100 100 sccm, Cal’ed for N2, used with O2 Gas 3 MFC: Unit 8100 250 sccm, Cal’ed for N2, used with SF6 Gas 4 MFC: Unit 8100 100 sccm, Cal’ed for N2, used with N2 Gas 5 MFC: Unit 8100 250 sccm, Cal’ed for N2, used with CHF3 Parts missing: PC board Ion Gauge Mechanical backing pump Touch screen dead, replaced with standard PC monitor & keyboard.
TRION Phantom III是專門為生產高精度微電子結構而設計開發的蝕刻器/asher。它是同類產品中的市場領導者,提供高性能、準確性和可靠性。該設備旨在提高生產率,使用戶能夠快速高效地制造復雜的微電子結構。該系統是用於半導體生產的多晶矽、二氧化矽、氧化錫、GaAs等材料蝕刻和灰化的完美工具。Phantom III具有堅固耐用的設計,能夠承受惡劣的生產環境。它具有一個自動化的裝載室,能夠一次處理多達19個晶圓。TRION Phantom III能夠以5 μ m的精度處理25 μ m的結構,其均勻性在市場上是無與倫比的。這是由於先進的精密控制單元利用集成的位置間控制機器在蝕刻和灰化過程中保持精確對準。Phantom III還具有先進的過程控制功能,允許用戶精確監控和調整蝕刻和灰化過程,以確保卓越的精度。這包括電源、溫度和時間的閉環反饋控制,允許用戶輕松調整參數以實現所需的結果。該工具還能夠分析晶片上的工藝數據,以促進進一步的優化和可靠性。TRION Phantom III的先進光學資產能夠在整個蝕刻和灰化過程中高效、精確地檢測和監控晶片的狀況。該模型與能夠將光束聚焦在單個點上的高精度光束偏轉設備集成在一起,用於高速精密蝕刻/沖洗。Phantom III是一款性價比高的蝕刻器/asher,提供卓越的性能和準確性。其用戶友好的設計和堅固的硬件使得它成為任何微電子實驗室必不可少的工具。憑借其強大的過程控制功能,它能夠確保一致的蝕刻和灰化過程,這些過程非常精確和可靠。
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