二手 TRION Phantom III #9039844 待售

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ID: 9039844
RIE / ICP System Bottom electrode: 8” Vacuum port: 6" System controller: Pentium computer, touch screen (6) Mass flow controller gas channels Automatic pressure control Automatic RF tuning of bottom electrode, RF generator: 600 watt 13.56 MHz Automatic RF tuning of ICP coil, RF generator: 1250 watt 13.56 MHz RF generator Cryogenic chuck: 100mm wafer, temperature control, -50ºC to 100ºC Electrostatic chuck: 6", He backside cooling Emergency on/off with AC power distribution box Components: High vacuum Pump: Osaka TG1003BW and Osaka TC1003 controller Backing mechanical pump: none High vacuum valve: VAT 98801-R1 valve Chamber pressure transducer: MKS 627 RF1 Generator: Comdel CX-600AS, RF1 automatch = Trion OEM RF2 Generator: Comdel CX-1250S, RF2 automatch = Trion OEM Heat exchanger: none Chuck heat exchanger: Julabo LH85 Elecrostatic Chuck: Gripping Power EPS200 Gas Controls: Separate exhausted cabinet for gas mixing He backside MFC: MKS 649A, 10sccm Cal’ed for He, used with He Gas 1 MFC: Unit 8100 250 sccm. Cal’ed for N2, used with CF4 Gas 2 MFC: Unit 8100 100 sccm. Cal’ed for N2, used with O2 Gas 3 MFC: Unit 8100 100 sccm. Cal’ed for N2, used with Ar Gas 4 MFC: Unit 8100 250 sccm. Cal’ed for N2, used with SF6 Gas 5 MFC: Unit 8100 250 sccm. Cal’ed for N2, used with CHF3 Gas 6 MFC: Unit 8100 100 sccm. Cal’ed for N2, used with C4F8.
TRION Phantom III是一款最先進的蝕刻器/asher,旨在實現自動化的高吞吐量、精確度和一致的結果。它是研發鑄造廠的重要工具,需要快速和精確的加工,才能在工業規模上產生復雜的形狀和特征。Phantom III利用雙聚焦離子束(FIB)設備,利用兩種類型的離子束-一種用於蝕刻,一種用於沈積-同時處理同一樣品。這樣可以加快處理時間並提高準確性。雙聚焦離子束還提供了更高的光束電流穩定性、並發的離子束能量和光斑尺寸調整以及更廣泛的工藝參數等優點。TRION Phantom III能夠處理各種各樣的晶片,從通常用E-Beam處理的晶片到需要離子束蝕刻和灰化的晶片。Phantom III具有高達100:1的高長寬比蝕刻、從特征到特征的無縫變換以及快速可靠的處理,是一款用途廣泛、功能強大的蝕刻工具。TRION Phantom III 蝕刻器/asher還配備了其他功能,如原位加熱系統、防反沖機構以及允許在受控環境中快速過程變化的工藝參數。此外,還可以使用定制設計的蝕刻配方對設備進行編程,從而可以對蝕刻結果進行完整的定制。Phantom III還設有實時流程監控機,允許用戶實時監控流程,以確保一致性和準確性。該工具還允許直接訪問流程數據和統計流程控制(SPC)。結合其廣泛的功能,TRION Phantom III在其設計中包含了集成的安全特性。這些特征的核心是主動濺射保護資產,它提供了防止樣品汙染和工藝違規的保護。總之,Phantom III是一款精密的蝕刻器/asher,專為自動化的高吞吐量、精確度和一致的結果而設計。它采用雙聚焦離子束模型,能夠處理各種各樣的晶片,並包括主動濺射保護設備等安全特性。憑借強大的特性和可定制性,TRION Phantom III是研發鑄造廠的絕佳工具。
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