二手 TRION Phantom III #9167672 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9167672
晶圓大小: 8"
優質的: 2008
Reactive ion etcher (RIE), 8"
ICP System
(4) On board mass flow controllers
Gases:
Ar
O2
CF4
N2
CHF3
Utilizes:
Surface mount
C-Seal technology
Orbital welded VCR fittings
Pump: Vacuum pump, chiller
Temperature controlled chiller
(2) RF Generators 600, 13.56 MHz
Automatic matching network
Software: Trion
2008 vintage.
TRION Phantom III是多種半導體基板的多功能、高性能蝕刻器和asher。它能夠執行制造先進微電子器件所需的所有蝕刻和灰化步驟。Phantom III的主要特性和功能包括:用於制造超小型設備特性的高速率蝕刻性能和低粒子生成。能用相同的工藝在同一個腔室中蝕刻和灰化。高精度晶圓定位控制設備,提高了均勻性、吞吐量和可重復性。用於控制蝕刻速率的閉環等離子體調諧和控制。AutoFill自動化過程,可更快地更改晶圓並提高吞吐量。先進的納米級加工和微細加工蝕刻技術。具有多個轉子配置的負載鎖定系統,可實現批處理。連續幹泵裝置,提高安全性,同時執行蝕刻和灰化過程.高精度多工藝晶片和模具提升機可確保零件的精確對準。能夠在陣列形成中產生毫秒級分辨率。能夠實時測量蝕刻深度和評估蝕刻結果。全自動操作和維護計劃,以確保生產效率和質量.靈活的軟件包,具有安全的數據訪問控制、錯誤跟蹤以及實時過程監視和控制功能。完善故障檢測和診斷工具,確保可靠性和安全性.配備自動晶圓處理和清理模型的資產,以節省時間和人力。完全可配置以滿足特定的流程需求。TRION Phantom III以更低的使用壽命成本提供了更好的性能,並已被證明能夠顯著改善周期和吞吐量。Phantom III專為制造先進的電子設備提供了一種堅固、可靠、經濟高效的蝕刻和灰化工藝。
還沒有評論