二手 TRION Phantom Rie / Orion III #293820297 待售
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ID: 293820297
優質的: 2020
Reactive Ion Etcher (RIE)
Reactor, 8"
System controller
Pentium based computer
Touchscreen interface
Recirculating temperature controller
Non-corrosive dry pump
Automatic pressure control package
(2) Mass flow controllers
Automatic Radio Frequency (RF) generator
2020 vintage
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) system, 8"
Radially designed high conductance plenum
Radially designed high conductance vacuum
System controller
Pentium based computer
Touchscreen interface
(4) Mass flow controllers
Automatic pressure controller
Heated lower electrode
Rotaty Vane pump
2020 vintage.
TRION Phantom Rie/Orion III是一款針對半導體制造、研發應用而設計的尖端蝕刻/asher設備。這一通用工具提供了精密蝕刻和清潔各種材料的高級工藝能力,使其成為制造微電子、MEMS設備、光子學和其他先進技術的必要設備。Phantom Rie/Orion III配備了一系列特性,能夠對基板進行高度控制和統一的加工。該系統利用射頻(RF)等離子體源產生用於蝕刻和灰化過程的反應性物質。射頻等離子體源能夠產生具有良好離子能量控制的高密度等離子體,保證材料的高效選擇性去除。TRION Phantom Rie/Orion III的關鍵優勢之一是它在處理各種基材和材料方面的靈活性。該單元可以加工各類基材,包括矽、玻璃、III-V化合物、金屬、聚合物,蝕刻選擇性和均勻性都很高。這使得它非常適合蝕刻關鍵設備結構,而不會損壞底層或創建不希望的側壁輪廓。Phantom Rie/Orion III具有可配置的腔室布局,允許在同一平臺內進行RIE和asher過程。該機器可以很容易地適應不斷變化的工藝要求,使其成為研發活動的通用工具。此外,腔室設計還結合了先進的氣體輸送和溫度控制系統,以確保精確的工藝參數控制和可重復性。為了進一步增強其處理能力,TRION Phantom Rie/Orion III配備了先進的控制系統和軟件接口。該工具提供了一個方便用戶的界面,便於配方編程和過程監控。操作員可以密切監視和調整關鍵工藝參數,如氣體流量、壓力、功率和溫度,以實現所需的工藝結果。Phantom Rie/Orion III還結合了安全功能,以確保操作員保護和設備可靠性。該資產設計有聯鎖和警報,以防止事故和設備在操作過程中損壞。此外,該模型還配備了堅固的真空設備和等離子體診斷,以保持過程的穩定性和可重復性。綜上所述,TRION Phantom Rie/Orion III是一個最先進的蝕刻/asher系統,為半導體制造和研究應用提供先進的工藝能力。該設備具有多功能性、可靠性和精密控制功能,是制造先進電子設備和材料過程中的重要工具。其先進的特點和用戶友好的界面使得它成為需要精確和統一的材料去除的研發活動的理想選擇。
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