二手 ULVAC Enviro II #293757415 待售
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ULVAC Enviro II是一種為半導體和微電子制造而設計的蝕刻器/asher設備。它是專門為蝕刻和/或去除薄膜以及後金屬蝕刻而設計的。Enviro II利用真空技術促進水平灰化和蝕刻工藝。ULVAC Enviro II具有由主室和加工室組成的腔室結構。主室和加工室都用雙O形環密封。主室配有便於處理基板的鎖載系統，並有一個便於裝載和卸載基板的大門。加工室配有卡盤，在加工過程中牢固地固定基板。Enviro II還配備了低溫冷卻裝置，能夠精確精確的溫度控制。室內的兩個液氮儲層在蝕刻過程中有利於基板的均勻冷卻。冷卻機可調節，液氮溫度易調節。這允許用戶最大化蝕刻結果。該工具具有多種令人興奮的功能,旨在最大程度地減少交叉尺寸的蝕刻誤差並提高蝕刻精度。ULVAC Enviro II利用質量流量計資產精確測量和控制氣流、壓力和溫度,以便進行精確和均勻的蝕刻。它還有一個振蕩器氣體聚焦模型，允許用戶從0-25mV改變等離子體電流，從10-50 um改變蝕刻寬度。這提供了更大的過程控制和增加基板吞吐量。再者，Enviro II有一個Anti-Bumping Plate，減少因等離子體侵蝕而產生的粒子。該設備還配備了多晶片盒式適配器，允許用戶同時處理多達8個晶片。這有助於減少處理時間、增加吞吐量和提高過程穩定性。ULVAC Enviro II與各種工藝氣體兼容，最大蝕刻速率高達8 μ m/min。總體而言,Enviro II是一個可靠和靈活的蝕刻/蝕刻系統,能夠實現高分辨率蝕刻。該機組精確的溫度控制、精確的氣流控制，以及其廣泛的令人興奮的功能，使用戶能夠取得最佳的效果。
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