二手 ULVAC Enviro II #9258348 待售
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ID: 9258348
晶圓大小: 8"
優質的: 2009
RF Strip system, 8"
(2) Process chambers
(2) Load lock cassette chambers
Load lock transfer chamber VTS-6
(2) Wafer heating systems
Components included:
ASTEX AX3060-10
ASTEX AX3060-14
(2) ASTEX AX3153, 500 W Load
(2) ASTEX FI20162-1, 3.0 kW Mag Head
ASTEX RF Generator FI20160-1, 3.0 kW Generator
(2) BROOKS AUTOMATION VCE-4 Cassette elevator
BROOKS AUTOMATION Robot VacuTran 5 001-7600-02
DELL Desktop computer
ENI OEM-6B-01M3 RF Generator
ENI OEM-6B-01 RF Generator
ENI MWH-5-06076
ENI MWH-5-01M3
Gateway 2000 desktop computer
(2) MKS Instruments control valve
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz, 86 A
2009 vintage.
ULVAC Enviro II是一種最先進的幹蝕刻和灰化設備，旨在提高化學氣相沈積（CVD）薄膜生產的產量。它是從Si、GaSb、InP、SiC和GaN等半導體晶片以及鐵氧體、玻璃、石英和陶瓷等非半導體材料中蝕刻和灰化任何基材的理想系統。Enviro II的源室配備了氯氣（Cl2）、三氯化硼（BCl3）、三氟化硼（BF3）等三種優質氣源。源腔的設計目的是提供對氣體濃度的高精度控制，能夠精確測量高達300 sccm的Cl2，提供一致和高效的蝕刻。腔室還配有兩個獨立的不銹鋼底座，方便晶圓托架裝卸。ULVAC Enviro II配備了獨特的創新功能-雙室架構。這允許用戶在源室和Ashing/沖洗室中同時蝕刻和/或沖洗晶片。這種容量允許更快的處理和更高的生產率。Enviro II的設計也是為了最大限度地提高安全性和減少對環境的影響。它使用ULVAC專有的單壁冷卻裝置,這有助於確保設備保持冷卻和更高效地運行。這樣可以減少電源使用,並提高ULVAC Enviro II的能效。Enviro II還配備了空氣淋浴管機，以防止外界來源的汙染。該腔室還在濾盒下方設有晶圓吊艙，裏面裝有氣體前體，在不使用時防止氣體流動。ULVAC Enviro II是任何生產環境的理想蝕刻和灰化工具。其先進的設計和功能最大限度地提高了生產效率,同時最大限度地降低了成本和環境影響。Enviro II具有高性能和易用性,是任何蝕刻或灰化應用程序的完美解決方案。
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