二手 ULVAC NE-950EX-V #9298684 待售

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ID: 9298684
優質的: 2015
CCP Etcher Capable of running: Single, 12" / Three, 6" Automated cassette to cassette handling (3) Wafers batch: 6" dia (7) Wafers batch: 4" dia (12) Wafers batch: 3" dia (29) Wafers batch: 2" dia Equipped ICP with magnetic field ULVAC P/N: 3188353 High density plasma source (2) ULVAC P/N: 3429391 Proprietary star electrodes Dry etching technology GaN, Sapphire, metal, ITO, SiC, AlN, ZnO (4) Elements compound semiconductor materials Option included 2015 vintage.
ULVAC NE-950EX-V是一種用於半導體器件生產中蝕刻和灰化工藝的蝕刻器/灰化器。此型號的蝕刻器/asher在單個機器中結合了廣泛的蝕刻和灰化處理功能。基板面積為450mm × 450mm,NE-950EX-V的加工能力可達三個玻璃晶片,一個金屬或有機基板,或一塊石英玻璃。它提供了多種蝕刻和灰化工藝,包括平行蝕刻、夾子蝕刻、深蝕刻、離子銑削、反應性離子蝕刻、電子束修剪和晶圓清洗。ULVAC NE-950EX-V配備了高分辨率蝕刻顯微鏡設備,利用漫射光學照明對每個基板進行清晰觀察和精確對準。顯微鏡系統能夠最大放大100倍,精確加工晶片,公差± 10微米。還可以用可自行更換的O形圈密封件進行蝕刻,並可以用各種氣體進行幹蝕刻。NE-950EX-V具有內置的ECR(電子回旋共振)源,其電子密度高達3 x 10 ¹的cm⁻¹,允許在5 Pa或更小的總單位壓力內創建用於蝕刻和修剪的高密度等離子體。這種超低壓力允許改善蝕刻均勻性和降低偏離晶圓表面的速率。ECR源還具有內置的數字控制器,控制電子回旋加速器頻率、電流模式和自動相位同步,以確保所有基板上的最佳蝕刻和修剪。ULVAC NE-950EX-V還包括一個獨特的二次場等離子體燈能夠提供超高頻等離子體卓越的清潔性能。等離子體燈以最高500MHz的頻率運行,確保快速和一致的晶圓清洗.它包括一個外室,用5級氣體控制機進行預防性維護,從而能夠準確控制過程中使用的所有氣體。NE-950EX-V還支持半導體生產的安全和環境措施。這包括用於降低機器周圍氣味和噪音風險的引擎蓋和其他安全裝置,以及設計適當的排氣系統以盡量減少空氣汙染。總之,ULVAC NE-950EX-V是一種可靠且先進的蝕刻器/灰化器,能夠為各種半導體器件提供卓越的蝕刻和灰化性能。憑借其高分辨率蝕刻顯微鏡工具、ECR源、超高頻等離子燈,為半導體生產質量和可靠性設定了標準。
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