二手 ULVAC NE-950EXk #9410744 待售

ID: 9410744
Dry etcher Power supply: AX 3000 III Antenna and bias Matching box: AMVG-2000-GA Antenna AMVG-1000-125M-FV Bias ULVAC HR60 Dry pump TMP: 2203LMTG(UI) NUTEK MFC FCST1005LUC-4J2-F1000-N2 Gases: Gas line / Flow Ar / 100 SCCM D2 / 100 SCCM CF4 / 400 SCCM SF6 / 200 SCCM CL2 / 200 SCCM BCL3 / 200 SCCM BCL3 / 50 SCCM N2 / Gas line purge TPR280 Prirani gauge IKR251 Cold cathode gauge FSTC-CS003L-EC Chiller 65048-JHHC-AEX1 Vacuum throttle valve 649A21T21CAVR PFC Unit He cooling HITACHI RS550 UPS power supply.
ULVAC NE-950EXk是一種具有高真空室的蝕刻器/加速器,能夠在200 mm x 200 mm的區域內進行等離子體處理。它創造了一個高精度的氫或氧等離子體過程,用於精確的蝕刻/蝕刻或表面活化。NE-950EXk配有發電源、過程氣體混合源、泵浦源、溫度控制源和溫度監測源。ULVAC NE-950EXk還配備了低溫真空泵,使其成為有機基板蝕刻和表面改性的理想選擇。其等離子體處理系統提供約10um的有效深度,允許精確控制薄膜表面。NE-950EXk還為蝕刻和表面處理提供了廣泛的工藝參數,例如蝕刻的時間和電流、表面活化的溫度和氣體流速。此外,ULVAC NE-950EXk可以手動或半自動模式操作。手動模式允許對參數進行基本控制,而半自動模式則允許對形狀不規則的基板設置定制的工藝參數和自動補償。該驅動程序還提供數據存儲和軟件更新功能,進一步提供了在執行蝕刻和表面處理時的易用性。此外,還包括一個1000點矢量發生器,用於設置蝕刻過程,同時冷卻可確保最佳基板質量。NE-950EXk的高真空室也確保了蝕刻/表面處理過程在清潔的環境中進行。總體而言,ULVAC NE-950EXk是一種蝕刻器/加速器,它在具有廣泛工藝參數的多個基板上提供精確的蝕刻/表面激活。它具有用於清潔處理環境的高真空室,可以手動和半自動模式操作。此外,矢量發生器提供更高的精度,而冷卻系統則有助於在蝕刻過程中保持最佳質量的基板。
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