二手 ULVAC uGmni-200E #293818645 待售

ULVAC uGmni-200E是一種先進的等離子體蝕刻器/灰度設備，設計用於高級半導體制造和研究應用的高精度納米級處理。這款尖端工具結合了創新功能、堅固的結構和精確的控制,以滿足現代半導體制造工藝的苛刻要求。uGmni-200E具有緊湊的占地面積和多用途的功能,是各種等離子體蝕刻和灰化過程的可靠而高效的解決方案。ULVAC uGmni-200E系統的核心是它的高性能真空室，它是為保持精確等離子體處理所必需的超高真空條件而設計的。該腔室采用優質材料建造，以確保耐用性和長期性能。此外，腔室設計還結合了先進的氣流控制和壓力調節機制，以支持廣泛的工藝條件和應用。uGmni-200E單元的關鍵亮點之一是其先進的等離子體生成和控制能力。該機器采用最先進的射頻等離子體源，在晶圓表面提供高密度、均勻的等離子體，用於高效的蝕刻和灰化操作。RF等離子體源由一個精密的RF電源單元供電，能夠精確調整等離子體參數，如密度、均勻性和能量分布。ULVAC uGmni-200E工具包括一整套過程控制和監測工具，以確保一致和可靠的處理結果。該資產配備了先進的等離子體診斷工具，包括光發射光譜（OES）和質譜，能夠實時監測等離子體種類和工藝條件。此外,該模型還配備了先進的端點檢測設備,能夠根據實時反饋信號精確控制蝕刻和灰化過程。UGmni-200E系統提供高度的靈活性和定制選項,以滿足特定的過程要求和研究目標。該單元支持廣泛的工藝氣體，包括氟基化學、氧氣、氙氣以及其他半導體加工常用的反應性氣體。此外，該機還配備了支持各種晶圓尺寸和材料的多功能晶圓處理工具，適合各種研究和制造應用。在用戶界面和控制功能方面，ULVAC uGmni-200E資產提供了一個用戶友好的軟件界面，能夠直觀操作和控制所有模型參數。該設備配備了全面的配方管理系統，允許用戶為不同的應用輕松創建和定制流程配方。此外,該設備還具有高級自動化功能,包括遠程監視和控制選項,以簡化工作流程並提高效率。總體而言，uGmni-200E等離子體蝕刻器/asher機器代表了先進的半導體加工應用的最先進的解決方案。該工具具有高性能的等離子體生成、精確的過程控制和多用途的功能,非常適合進行各種研究和制造任務,需要對納米級特征進行精確蝕刻和灰化。該資產堅固的構造、精密的監控工具和用戶友好的界面，使其成為尋求在半導體技術領域取得高質量加工成果和推進創新的半導體制造設施和研究實驗室的可靠而有價值的工具。