二手 VACTRONIC 2000-M #161821 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 161821
PECVD Plasma etch tool
Nupro shut offs
Tylan Range 500SCCM
Vacuum & Temperature Control Panel
Mass Flow Controller
Vac. General CMLA-11
4-Flo-Master FM-2001
RF5S RF Plasma Controller
2-Vacuum Chambers (9”OD, 7 ¾ “ID @ 8 1/4/”deep)
MDC Conflats with glass and KF vacuum ports.
VACTRONIC™ VACTRONIC 2000-M 蝕刻器/asher是一種多功能、高性能的機器,專為半導體基板的蝕刻和灰化而設計。它利用物理濺射和化學蝕刻相結合,在廣泛的材料中創造出表面圖樣,包括鋁、矽、陶瓷、砷化氙和多晶矽。該機設有模塊化蝕刻室、冷卻設備,以及允許精確控制蝕刻參數的氣體輸送系統。VACTRONIC™ 2000-M蝕刻室采用不銹鋼結構,密封,確保安全有效運行。腔室內有一個獨特的噴嘴單元,它以蒸汽或氣體形式向基板提供均勻分布的蝕刻劑。氣體輸送機具有先進的閥門和計量裝置工具,可以精確控制蝕刻氣體的流動。該資產還具有真空輔助氣體輸送模型,以確保蝕刻後不會浪費蝕刻氣體或將其留在室內。VACTRONIC 2000-M VACTRONIC™冷卻設備在蝕刻室內提供均勻的溫度分布。這樣可以精確控制蝕刻過程,確保基板被準確和一致地蝕刻。冷卻系統還有助於將蝕刻過程中產生的熱量降至最低。該機器的多功能設計使其能夠用於垂直和水平蝕刻應用。氣體輸送單元和蝕刻參數可確保跨蝕刻的準確性和可重復性,從而提高產量和吞吐量。模塊化設計使安裝和操作更加方便。VACTRONIC™ 2000-M 蝕刻器/asher是蝕刻各種材料的理想選擇,從鋁和矽到砷化氙和多晶矽。它采用模塊化結構,便於安裝和操作,先進的氣體輸送和冷卻系統能夠精確控制蝕刻參數,確保準確性和可重復性。該機還能夠產生適合各種應用的高分辨率蝕刻圖樣,使其成為基材蝕刻和灰化的理想選擇。
還沒有評論