二手 VEECO Ion Beam Etcher (IBE) #293775921 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 293775921
LEYBOLD MAG W 1300 Pump
OERILIKON LEYBOLD D65BCS Gas
BROOKS MX400TM 4-Side transfer module
POLYSCIENCE DCW304D1M01 Chiller
MARATHON Express 400 Palette loader
MKS Baratron Manometer
Process module
Polished stainless steel chamber
Single wafer fixture with flow cool
Rotation: 3-10 RPM
Tilt: +90°-75°
Clamp
Shield
Liner
Motion box
I/O Net module
I/O Box
Loadlock
Palette elevator
Turbo pump
Gas line
(4) Pallets
(3) MFCs
(2) AC Power cabinets
RF-350 Source with PBN and shutter
Forline gauge: GP275 Mini conventron 275538-GD-T
Rough gauge: GP275 Mini conventron 275538-GD-T
GP354 Mini conventron 275538-GD-T
Loadlock chamber gauge: GP275 Mini conventron
Vacuum source and flow cool
MKS:
10 SCCM
(2) 50 SCCM
Power supply: 208 V, 3 Phase, 150 Amps.
VEECO離子束蝕刻器(,簡稱IBE)是一種用於半導體器件制造工藝的先進工具,用於精確的材料去除和表面改性。利用離子束技術,VEECO IBE提供了一種控制和高效的方法,以卓越的精度和均勻性蝕刻和灰化各種材料。VEECO IBE設備的核心是離子束源,它產生聚焦的高能離子束,轟擊底物,打破分子鍵,通過物理濺射去除物質。離子束可以由多種離子源產生,如稀有氣體如氙氣或反應性氣體如CF4,這取決於所加工的特定材料和所需的蝕刻特性。VEECO IBE系統的主要優點之一是能夠實現高蝕刻速率,同時在基板表面保持優異的選擇性和均勻性。這在半導體制造過程中至關重要,因為對材料去除的精確控制對於制造納米級器件至關重要。VEECO IBE單元提供了一系列工藝參數,可以對其進行優化,使蝕刻工藝符合特定的材料和設備要求。可以調整離子束能量、束電流、束角和基板溫度等參數,以達到所需的蝕刻速率、輪廓和表面光潔度。除材料蝕刻外,VEECO IBE機還支持灰化工藝,這涉及從半導體晶片中去除有機汙染物或光致抗蝕層。通過仔細控制離子束參數和工藝條件,VEECO IBE可以有效地將表面灰燼,而不會損壞底層材料,確保裝置結構的完整性。VEECO IBE工具配備了先進的控制系統和監控工具,以確保精確的過程控制和實時反饋。集成的等離子體診斷、光發射光譜和端點檢測功能,使操作員能夠監控蝕刻過程並實時進行調整,以優化性能和產量。此外,VEECO IBE資產是為高通量生產環境而設計的,具有自動晶圓處理、配方管理和數據記錄功能等功能。這使半導體制造商能夠在多個晶片和過程運行中獲得一致和可重復的結果,從而提高了總體生產率和產量。總之,VEECO離子束蝕刻器(IBE)是半導體器件制造中一種通用、高度先進的材料蝕刻和灰化工具。VEECO IBE模型具有精確的控制、高均勻性和優異的工藝重復性,是實現現代半導體制造工藝嚴格工藝要求的重要工具。
還沒有評論