二手 VEECO / MICROETCH 1201 #293628796 待售

VEECO/MICROETCH 1201是一種深層等離子體蝕刻器和灰化器，設計用於先進的等離子體蝕刻、灰化和深層反應性離子蝕刻（DRIE）應用。該設備設計用於研究、開發和工業生產等多種行業。VEECO 1201具有堅固可靠的設計，MICROETCH 1201占地面積小，幾乎適合任何實驗室環境，使得小部件的電鍍和蝕刻變得容易。該系統為復雜的光刻執行一系列蝕刻工藝，包括深蝕刻/離子銑削、IC/MEMS蝕刻、半導體蝕刻、激光燒蝕和微制造工藝。1201通過其先進的車載人工智能（AI）和微處理器對蝕刻工藝進行精確控制。AI單元自動優化蝕刻參數，並精確控制過程的吞吐量。該機器能夠用各種氣體進行蝕刻，包括碳氟化合物、甲烷、氮氣和氧氣。VEECO/MICROETCH 1201還具有兩個獨立的電源,可以同時執行多個蝕刻任務。該工具使用低壓充氣室和直接驅動的基板平臺，以盡量減少汙染和表面損壞。VEECO 1201的內室設計為熱穩定性、與外部壓力隔離以及安全的大氣環境。MICROETCH 1201還通過使用快速覆蓋氣體控制來幫助減少停機時間,確保蝕刻過程的快速可靠吞吐量。在1201年,用戶可以使用廣泛的過程監控和數據采集工具,例如蝕刻劑的實時光譜、飛行時間質譜以及基本和高級的過程控制,以使用戶能夠對過程進行微調。對於先進的研究應用，VEECO/MICROETCH 1201提供了一個集成的光譜平臺來測量等離子體的質量通量、底物溫度和壽命。此外，該資產還配備了多視圖光纖顯微鏡，用於監測蝕刻結果。總之，VEECO 1201是一種可靠、直觀的蝕刻模型，可以容納廣泛的蝕刻過程。它具有用戶友好的界面，並具有可靠的組件和功能，以確保每次都有一致和精確的蝕刻。MICROETCH 1201設備使用戶可以訪問各種監控和高級過程控制工具,以微調等離子體蝕刻過程並獲得對其蝕刻任務的更高級別的控制。