二手 VEECO Microetch LL250 #59880 待售
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ID: 59880
Automatic loadlock ion mill, 4"
Optical / Fiber optic system for endpoint detection
Square substrates:
Can be modified to accept 4" round substrates
System used to mill:
Platinum
Titanium
Nickel
Copper
Nichrome thin film metals
Anisotropic etching includes:
Au, Cu, Ni, Cr, and TiW
Multistep etch processes for stacked layers (MLC, MCM):
Ceramics
Hybrids
Thin film heads
Flat panel displays
High frequency devices
Process flexibility with IBE, RIBE, CAIBE, flowcool substrate cooling
Rotation and tilting options configured
Pumping system includes:
Mechanical pump and turbo pump for main chamber
Mechanical pump and turbo pump for load lock / Transfer chamber
Spare parts:
Magnetic sensor
Shutter gear assembly
Shutter worm gear
Molly screws for source
Tungsten source wire
Tungsten neutralizer wire
Assorted insulators
Assorted O-rings
Fixturing plates, 4"
PC:
Comark
Model: 4000 Series
INTEL 486i
1994 vintage.
VEECO LL 250是一種離子銑削設備，用於制造納米結構。它是生產高質量納米結構表面的完美工具，特別是在電子和光電工業中的應用。該系統依靠聚焦離子束來實現優越的表面質量，並具有先進的燒蝕室和符合人體工程學的設計。VEECO Microetch LL250是一個現場編程單元,允許定制銑削參數。它具有廣泛的光束能量、脈沖長度和氣體壓力。可以調整光束電壓的全範圍，為不同的基板和材料量身定制銑削功能。該機器還提供先進的離子束診斷和系統監控，包括離子束電流和能量控制。LL 250具有一個基於四極子的離子束柱，它允許廣泛的束（電子）能量範圍。這樣可以提高銑削輪廓的靈活性和自定義程度。能量和脈沖長度的靈活性使得Microetch LL250適合各種離子蝕刻步驟，如MEMS的材料、生物微流體和光學元件。此外，VEECO LL 250具有高分辨率的成像級，允許對基板進行精確對準和定向。這對於保證整個晶圓大小的一致過程至關重要。其圖像捕獲和漂移校正模式還大大節省了開發成本並縮短了周期時間。VEECO Microetch LL250還包含動態光束成形特征，以盡量減少由不均勻的光束能量或間距引起的不均勻或扭曲的離子輪廓。這種動態光束成形確保了各種基材和材料的最高質量的蝕刻和工藝。LL 250在運行過程中也提供極低的噪音水平。這對於潔凈室操作和帶有敏感電子元件的設備非常重要。它還包括可選的附件,以進一步降低噪音水平。總體而言,Microetch LL250是一種多功能、高性能的離子銑削工具,非常適合實現表面粗糙的納米結構。它具有廣泛的功能、特性和性能,非常適合生產電子、光電和MEMS行業中的納米結構曲面。
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