二手 YES / GLEN G 1000 #293735345 待售

ID: 293735345
Plasma cleaner (5) Trays Operation temperature: 20-100°C N2 Flow rate: 1.7 SCFM Process gas flow rate: 20-50 SCCM Interior chamber dimension (W x D x H): 45.72 x 45.72 x 30.48 cm Chamber material: 6061-T6 Aluminium SEMI Compliance: S2/S8 Mass Flow Controller: Up to 3 Range for exposure time: 0-1200 Seconds (20 Minutes) Resolution of timer setting: 1 Sec Performance: RF Plasma power: 0-1000 W @ 550 VAC RF Leakage magnetic: 0.6 mA/m, 4.15 x 10-7 A2/m² RF Leakage electrical: 1.6 V/m, 4.2 V2/m² Nitrogen consumption: 0 SCF, 6.8 SCF, 1.7 SCF Power consumption with pump: 375 W, 1000 W, 640 W Reactant gas consumption: 0 SCF, 20-50 SCCM Heat emission: 920 W Power requirements: 200-250 VAC, 20 Amps, 50/60 Hz, Single phase Does not include pressurized cylinder gas.
YES/GLEN G1000是一種高度先進的蝕刻器和asher設備,設計用於半導體晶片和其他基板的精確和高效處理。這種多功能工具提供了廣泛的功能,非常適合研究和開發以及大批量生產環境。YES G-1000具有卓越的性能和可靠性,是全球半導體制造商和研究機構的熱門選擇。GLEN G 1000是一種雙室系統,結合了單個平臺的蝕刻和灰化功能,為用戶提供了無與倫比的靈活性和過程控制。該單元采用高功率射頻等離子體源,允許對各種材料進行快速、均勻的蝕刻,包括矽、二氧化矽、氮化矽和金屬。雙腔室設計使用戶能夠快速輕松地在蝕刻和灰化過程之間切換,而無需手動重新配置腔室。G-1000的主要特點之一是其先進的流程監控能力。該機配備了多個傳感器和監控工具,能夠實時監控壓力、溫度、射頻功率等工藝參數。這允許用戶優化過程條件,以實現最大的性能和可重復性。YES/GLEN G 1000還具有先進的氣體流量控制系統,可確保對氣體流量和比率的精確控制,從而使用戶能夠獲得高度統一和可重現的結果。在性能方面,YES G 1000在蝕刻和灰化應用方面均表現出色。該工具可實現大晶圓尺寸的高蝕刻速率和優異的均勻性,非常適合大批量生產應用。YES/GLEN G-1000還提供精確的灰化功能,用於從晶片表面去除光刻膠和其他有機汙染物。資產的可調灰化參數允許用戶針對不同的材料和工藝要求優化工藝條件。YES G1000的設計考慮了用戶的便利,具有用戶友好的界面和直觀的軟件控制。該模型的軟件界面允許用戶輕松編程和監控流程配方,以及訪問高級診斷和故障排除工具。G1000還提供遠程監視和控制功能,允許用戶從遠程位置監視和控制設備,以增加便利和靈活性。G 1000除了擁有先進的能力和性能外,還具有很高的可靠性和易於維護。該系統由高質量的元件和材料構成,這些元件和材料被設計用來承受半導體加工環境的嚴酷。GLEN G1000采用模塊化設計,可方便地訪問所有主要組件進行維護和維修。此外,該設備還配備了自我診斷工具,可幫助用戶快速識別和解決問題,從而最大限度地減少停機時間並最大限度地提高工作效率。總體而言,GLEN G-1000是一款頂級蝕刻器和asher機器,提供無與倫比的性能、多功能性和可靠性。YES/GLEN G1000具有先進的工藝控制和監控功能、高性能蝕刻和灰化功能以及用戶友好的界面,是半導體制造商和研究人員為滿足其處理需求而尋求尖端解決方案的理想選擇。
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