二手 BRANCHY TECHNOLOGY Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching (ICP-RIE) system #293814269 待售

BRANCHY TECHNOLOGY電感耦合等離子體反應離子蝕刻（ICP-RIE）設備是一種先進的蒸發器，設計用於半導體制造和研究應用中的精密材料蝕刻。該系統利用感應耦合等離子體（ICP）技術，創造出一種高密度等離子體，然後用於蝕刻具有非凡均勻性和精確度的材料。ICP-RIE單元由一個放置要蝕刻材料的腔室和一個產生高頻電磁場的射頻線圈組成，從而產生電感耦合等離子體。等離子體通過對線圈施加射頻功率而點燃，使過程氣體電離形成與材料表面相互作用蝕刻的反應物種。BRANCHY TECHNOLOGY ICP-RIE機的一個關鍵特點是其控制離子能量和方向性的能力，導致精確和各向異性的蝕刻型材。這在半導體制造過程中至關重要，因為納米級特征必須在基板表面上精確定義。該工具還提供了高度的工藝靈活性，允許用戶量身定制等離子體化學和工藝參數，以達到特定的蝕刻要求。這種靈活性使得廣泛的材料可以被蝕刻，包括矽、二氧化矽、金屬和III-V化合物半導體。BRANCHY TECHNOLOGY ICP-RIE資產配備了先進的流程監控能力，以確保一致和可重現的結果。實時過程診斷，如光發射光譜和端點檢測，允許用戶監控蝕刻過程並進行實時調整以優化性能。此外,該模型還具有用於樣品傳輸的鎖載室,可最大程度地減少腔室停機時間並提高整體設備生產率。鎖載室還通過減少汙染物暴露來幫助保持清潔的加工環境。ICP-RIE系統采用方便用戶的軟件界面設計，便於編寫流程配方和參數調整程序。這簡化了操作,減少了新用戶的學習曲線,使其成為研究和生產環境的理想工具。綜上所述，BRANCHY TECHNOLOGY ICP-RIE單元是一個尖端蒸發器，為半導體制造和研究應用提供精確、均勻、高度可控的材料蝕刻能力。其先進的特性和靈活的操作使其成為一個有價值的工具，用於各種材料加工任務，從設備制造到表面修改和圖案。