二手 KURT J. LESKER Nano 36 #293772535 待售

製造商
KURT J. LESKER
模型
Nano 36
ID: 293772535
優質的: 2019
Thin film deposition system Process modules: Low temperature evaporation sources Thermal evaporation Magnetron sputtering: RF and DC Options: Film thickness control Various substrate fixtures Substrate heating and cooling Pressure control Glovebox integration Power supply: 208-240 VAC, Single phase, 50-60 Hz, 3 Wire 2019 vintage.
KURT J. LESKER Nano 36是為納米技術研發中先進的薄膜沈積過程而設計的尖端蒸發器。這種高性能的設備提供了對材料沈積的精確控制,使研究人員能夠創造出具有非凡的均勻性、純度和對基板的附著力的薄膜。納米36蒸發器的核心是其精密的真空室,為薄膜沈積過程提供了必不可少的高真空環境。該腔室設計用於容納多種基材,包括矽片、玻璃滑梯以及其他納米技術應用常用的材料。這種多功能性使研究人員能夠輕松地將薄膜沈積在不同類型的表面上。KURT J. LESKER Nano 36具有獨特的電子束蒸發源,能夠蒸發各種材料,包括金屬、氧化物和半導體。這個源產生一個聚焦電子束,將材料加熱到蒸發溫度,產生一股汽化的原子流,沈積到基板上。電子束蒸發的使用保證了高沈積速率和對沈積薄膜厚度和組成的良好控制。除了電子束蒸發源外,Nano 36還配備了一系列先進的特性,以增強沈積過程。其中包括精確的厚度監測系統,使研究人員能夠實時監測沈積速率,並以高精度達到所需的薄膜厚度。該單元還包含一個旋轉的基板支架,確保在整個基板表面均勻沈積。KURT J. LESKER Nano 36蒸發器的關鍵優點之一是其用戶友好界面,簡化了操作和數據分析。機器通過直觀的軟件界面進行控制,使研究人員能夠輕松設置沈積參數、監控過程變量以及分析數據。這種簡化的工作流程使研究人員能夠有效地進行實驗並及時獲得可靠的結果。Nano 36還在設計時考慮到了可擴展性,使研究人員能夠隨著研究需求的發展而擴展工具的功能。資產可以很容易地與額外的沈積源(如濺射或熱蒸發)結合在一起,以使更廣泛的薄膜沈積技術成為可能。這種靈活性使得KURT J. LESKER Nano 36成為開展納米技術和材料科學多樣化研究項目的理想平臺。總體而言,Nano 36代表了最先進的蒸發器模型,在納米技術研究中為薄膜沈積提供了無與倫比的性能和多功能性。KURT J. LESKER Nano 36具有先進的特性、精確的控制和用戶友好的界面,是研究人員探索納米級薄膜獨特特性和應用的寶貴工具。
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