二手 ULVAC ei-OPT085 #9376087 待售
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單擊可縮放
ID: 9376087
晶圓大小: 4"
優質的: 2010
Optical evaporation system, 4"
Wafer size: φ50mm±1.0mm
Thickness: 280±15μm
Dome size: 790φmm (4" Wafer x 110Pcs)
EB-Gun: EG0-1G
HPS-1000G-100 EB Power supply, 10kW
LR90 Dry pump
CP11 U-16P Cryo pump
DRP11 Dry pump with LR-90 Silencer
MFC: O2 Gas, 50 SCCM
Lamp heater: Maximum 350°C
PLC CPU
C-30VR Cryo compressor
TOKYO INSTRUMENTATION FS12-13-21-22 FA Series flow switch
VEECO Ion gun controller screen
CRTM-9000G Film thickness monitor
ET1515LJ Touch panel system
BENQ Monitor, 15"
Main source shutter
(4) Heating lamp units
Main breaker
IG Filament gauge
Ion gun
Pig gauge
MAINTE Button cover
Holder
Lid plate
(4) Spare parts for protective board
No quartz oscillator
No EBGU
No dome
2010 vintage.
ULVAC ei-OPT085蒸發器是為真空沈積過程設計的高性能設備.它是一種物理氣相沈積（PVD）蒸發器，為金屬或陶瓷膜沈積在基板表面而建造。該系統主要用於工業應用，其主要功能是在不同表面提供最精確的薄膜沈積。Ei-OPT085是一種具有對稱設計和高真空室的單基板蒸發器。它的圓柱形墻壁由高度耐用的不銹鋼制成，尺寸為200毫米（直徑）和600毫米（高度）。蒸發器的熱阻為0.2 （C/s）。此外,它還提供出色的導熱性能,幫助基板表面快速達到所需溫度。沈積室的真空水平為330μM/sec，帶有出口壓力表。蒸發器使用ULVAC專利的A-Mode Flow Booster （AFB）技術來精確控制汽流。這確保了沈積過程的一致性和可靠性。ULVAC ei-OPT085由變頻驅動單元提供動力,從而減少了對機械部件的需求。Ei-OPT085具有多種生產過程控制功能,包括精確的溫度控制機、計算機輔助分析工具、溫度反饋控制資產和數據記錄器。此外，蒸發器具有智能沈積控制能力、各種關鍵參數的自動監控以及快速過程調節能力。先進的冷卻模型為蒸發器提供了卓越的溫度控制，使其能夠以最小的雜質進行高質量的薄膜沈積。總體而言，ULVAC ei-OPT085蒸發器是物理氣相沈積的先進設備，為用戶提供可靠的性能和高精度的結果。該系統具有獨特的特點和高效的設計，非常適合半導體、電子和醫療設備制造等行業使用。
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