二手 ULVAC Satella #9160531 待售
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ID: 9160531
優質的: 2006
Vacuum evaporation system
Cluster tool
Substrate size: 185mm x 235mm x 0.7mmt
Tact time: 30 minutes
Applications: R&D, device prototypes
System configuration:
Pre-processing →Hole layer→Luminescent layer (R→G→B) →Electrode layer→ Sealing (manual)
Organic deposition processes
Multiple independent chamber
Full-color device production
Difficult application for Solciet
7-Sided transfer chamber
Support 2 to 4 organic deposition chambers
High-precision mask alignment mechanism for active-matrix full-color devices
Currently de-installed
2006 vintage.
ULVAC Satella是一種創新的濺射設備,用於薄膜沈積。該系統具有獨特的配置,包括射頻磁控管濺射源和放置在水平面上的氣動力離子源。該裝置生產高質量、均勻的薄膜,用於各種工業、醫學和分析應用。該機裝有安裝在主體底部的射頻(RF)磁控管濺射源。這種來源使導電膜能夠以高速率沈積。由高壓(HV)氣源供電的離子源位於垂直平面。這樣可以同時對金屬目標進行離子轟擊,使表面塗層光滑幹凈。Satella由於其高效的設計和高性能的材料加工能力,非常適合在金屬基板上形成硬質塗層。該工具對材料電離有極好的控制,非常適合工件塗層的應用。離子源即使在極低的溫度下也會產生高度聚焦的光束,確保均勻沈積而不會造成損壞的風險。該資產具有幾個用戶友好的功能,如便於操作的圖形用戶界面(GUI),以及膠片層的自動沈積。它還具有各種有用的特性,如溫度控制、壓力調節和自動校準。該模型與許多適配器兼容,包括機器人技術,使其適合多個流程配置和自動化。ULVAC Satella具有全自動和可編程的濺射設備,可減少安裝時間並提高生產吞吐量。可用於多種薄膜沈積過程,包括金屬蒸發、薄膜沈積、半導體沈積和離子註入。Satella是一種可靠、用戶友好且經濟高效的濺射系統,有助於實現高質量、均勻且性能出色的影片。憑借其強大的功能和直觀的設計,對於希望快速提高產品質量的企業來說,該單元是一個可行的選項。
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